VEECO 和 ALLOS 演示業(yè)界領先的 200MM GAN‐\ON‐\SILICON 性能來實現 MICRO‐\LED 的應用

Plainview，N.Y.， Veeco Instruments Inc.(Nasdaq：VECO)宣布與 ALLOS Semiconductors(ALLOS)完成一項戰(zhàn)略措施，以展示 200mm 硅基板用于氮化鎵藍/綠光 Micro‐LED 的生產上。 Veeco 與 ALLOS 合作將其專有的磊晶技術轉移到 Propel® Single‐Wafer MOCVD 系統(tǒng)上，以便于現有的硅生產線上實現生產 Micro‐LED。

“使用 Propel 反應腔，我們就擁有了一項 MOCVD 技術來實現高產能的 GaN 磊晶，可滿足在200mm 硅生產線上生產 Micro‐LED 元件的所有要求， “ALLOS 半導體公司執(zhí)行長 Burkhard Slischka表示。不到一個月的時間，我們就已經在 Propel 上建立了我們的技術，并且獲得了無裂紋、無回熔 (meltback‐free)的晶圓，其翹曲度低于 30 微米，晶體質量高，優(yōu)異的厚度均勻性與小于 1nm 的波長均勻性。和 Veeco 一起，ALLOS 期待將這種技術更廣泛地應用于 Micro‐LED 的產業(yè)中。“

Micro‐LED 顯示技術由< 30x30 平方微米的紅色，綠色，藍色(RGB)無機 LED 所組成，再轉化為顯示器背板以形成子像素。與 OLED 和 LCD 相比，這些高效率 LED 直接發(fā)射且耗電量更低，卻可以為移動顯示器，電視機和穿戴式裝置提供卓越的亮度和對比度。Micro‐LED 的製造需要高質量、均勻的磊晶晶片來滿足顯示器的產量和成本控制的目標。

“與競爭對手的 MOCVD 平臺相比，由于 Veeco 的 TurboDisc® technology 提供了更廣泛的製程范圍，因此 Propel 提供了一流的均勻性同時還能獲得優(yōu)良的薄膜品質。”Veeco 高級副總裁兼

MOCVD 營運總經理 Peo Hansson 博士表示。“將 Veeco 領先的 MOCVD 專業(yè)技術與 ALLOS 的 GaN‐ on‐Silicon 的磊晶技術結合在一起，使我們的客戶能夠開發(fā)出低成本的Micro‐LED，為新的市場中的開拓出新的應用。”