光刻系統(tǒng)

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什么是光刻機(jī)？它的基本原理是什么？

光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System。

模擬技術(shù)
2023-09-26

光刻機(jī) 曝光系統(tǒng) 光刻系統(tǒng)
KLA-Tencor發(fā)布VoyagerTM 1015和Surfscan® SP7缺陷檢測(cè)系統(tǒng)：解決工藝和設(shè)備監(jiān)控中的兩個(gè)關(guān)鍵挑戰(zhàn)

日前，KLA-Tencor公司宣布推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品，在硅晶圓和芯片制造領(lǐng)域中針對(duì)先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的邏輯和內(nèi)存元件，為設(shè)備和工藝監(jiān)控解決兩項(xiàng)關(guān)鍵挑戰(zhàn)。

測(cè)試測(cè)量
2018-07-12

晶圓 kla-tencor 缺陷檢測(cè)系統(tǒng) 光刻系統(tǒng)