紫外光刻

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三星推出新工藝，7nm工藝將上EUV極紫外光刻

Intel雖然一再強調(diào)自己的xxnm工藝才是最精確的，比如同樣標稱10nm，自己要比三星、臺積電的領先整整一代，但是沒辦法，人家的腳步要快得多。今天，三星電子又宣布了新的11nm FinFET制造工藝“11LPP”(Low Power Plus)，并確認未來7nm工藝將上EUV極紫外光刻。

嵌入式動態(tài)
2017-09-30

7nm 三星廠商動態(tài) 11nm新工藝紫外光刻