臺(tái)積電為了打贏7納米制程之戰(zhàn),在各方面積極布局,日前合作伙伴新思科技(Synopsys)針對(duì)7納米制程成功完成DesignWare基礎(chǔ)和介面PHY IP組合的投片,與16FF+制程相比,臺(tái)積電的7納米制程能降低功耗達(dá)60%,并提升35%的效能。
臺(tái)積電(2330)推進(jìn)先進(jìn)制程馬不停蹄,7納米將接續(xù)10納米于明年下半年大量產(chǎn)出,搶得技術(shù)領(lǐng)先之優(yōu)勢(shì)。合作伙伴IP廠商新思科技宣布成功完成臺(tái)積公司7納米FinFET制程IP組合的投片。
隨著超微(AMD)于7月底發(fā)表Radeon RX Vega系列繪圖芯片(GPU)正式上市開(kāi)賣(mài),外界也在談?wù)摼o接著Vega的超微下一代GPU動(dòng)態(tài),而據(jù)超微發(fā)布的GPU架構(gòu)產(chǎn)品規(guī)劃藍(lán)圖,顯示Vega下一代GPU代號(hào)將為「Navi」,確定將采GlobalFoundries的7納米FinFET制程節(jié)點(diǎn)制造,并將采7LP技術(shù),更值得注意的是,據(jù)稱(chēng)Navi將會(huì)是超微首款專(zhuān)門(mén)采人工智慧(AI)加速電路設(shè)計(jì)的GPU加速硬體。