新思科技完整EDA流程率先獲得三星4LPP工藝認(rèn)證

（全球TMT2021年12月2日訊）新思科技（Synopsys, Inc.）近日宣布，其完整的EDA流程已獲得三星全新4LPP（4納米低功耗+）工藝認(rèn)證。4LPP工藝是三星獨(dú)特FinFET技術(shù)的全新實(shí)施工藝，能夠提升SoC芯片密度、性能和功耗，為當(dāng)前高需求的應(yīng)用（包括高性能計(jì)算、AI和5G基礎(chǔ)設(shè)施）提供支持。

經(jīng)三星4LPP工藝認(rèn)證的新思科技解決方案包括完整的數(shù)字、模擬、混合信號(hào)實(shí)施以及簽核流程。此外，新思科技與三星的合作還包括在三星多裸晶芯片集成（MDI™）?流程中采用新思科技3DIC Compiler解決方案，MDI流程已經(jīng)在4LPP技術(shù)上得到了驗(yàn)證。3DIC Compiler是完整覆蓋從初步規(guī)劃到簽核的3D解決方案，可處理包含數(shù)千億晶體管的復(fù)雜性，并推動(dòng)功耗、性能和面積（PPA）方面的優(yōu)化。新思科技同時(shí)在開(kāi)發(fā)面向4LPP工藝的DesignWare? 基礎(chǔ)IP和接口IP的產(chǎn)品組合，為開(kāi)發(fā)者在該工藝上開(kāi)發(fā)的芯片提供低延遲、高帶寬和低功耗解決方案。