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[導(dǎo)讀]SLC、MLC、TLC、QLC、PLC……NAND閃存的發(fā)展大家應(yīng)該都比較熟悉了,它們代表了每個單元能夠存儲的比特?cái)?shù)據(jù),密度越來越高,容量越來越大,當(dāng)然可靠性、壽命越來越低。

SLC、MLC、TLC、QLC、PLC……NAND閃存的發(fā)展大家應(yīng)該都比較熟悉了,它們代表了每個單元能夠存儲的比特?cái)?shù)據(jù),密度越來越高,容量越來越大,當(dāng)然可靠性、壽命越來越低。

SLC每單元1個比特(1bpc),需要2檔電平;MLC每單元2個比特,需要4檔電平,容量增加100%;TLC每單元3個比特,需要8檔電平,容量增加33%……

以此類推,尚未商用的PLC每單元5個比特,需要32檔電平,而容量只有SLC的5倍。

現(xiàn)在,日本創(chuàng)業(yè)公司Floadia(富提亞科技)居然宣稱他們已經(jīng)開發(fā)出了全新的每單元7個比特(7bpc)的閃存,按照規(guī)律需要多達(dá)128檔電平,容量則相當(dāng)于SLC的10倍。

Floadia當(dāng)然沒有延續(xù)NAND閃存的老路,而是開發(fā)了全新的非易失性SONOS單元,在硅-氧化物-氮化物-氧化物-硅(SONOS)布局的基礎(chǔ)上,使用分布式電荷捕獲型結(jié)構(gòu),中間設(shè)置了一層氮化硅薄膜,可以牢牢捕獲電荷,從而長久維持?jǐn)?shù)據(jù)穩(wěn)定性,并且電壓編程擦寫循環(huán)非常簡單。

其中,氧化物-氮化物-氧化物(ONO)層使用了二氧化硅(SiO2)、氮化硅(Si3N4)材料,后者制造難度非常低。

官方號稱,在極低的電壓偏移下,這種閃存可以維持超過10萬次編程擦寫循環(huán),即便是在150℃高溫下,也能持續(xù)保存數(shù)據(jù)長達(dá)10年之久,而現(xiàn)在主流閃存能堅(jiān)持100秒就不錯了。

當(dāng)然,也先別太激動,F(xiàn)loadia這種新閃存的目標(biāo)市場(至少目前)主要是嵌入式市場,比如正在和東芝合作,利用40nm工藝進(jìn)行制造,面向各種微控制器。

Floadia成立于2011年4月,創(chuàng)始人是來自日本瑞薩電子的7位工程師,都有近20年的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),公司已經(jīng)經(jīng)歷了三輪融資,其中C輪獲得12億日元(6700萬元人民幣)。

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