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[導讀]1月19日下午消息,據(jù)報道,為了從臺積電手中奪回“全球最先進芯片制造商”的地位,英特爾今日向荷蘭光刻機制造商阿斯麥(ASML)訂購了一款最先進的芯片制造機(光刻機)。

1月19日下午消息,據(jù)報道,為了從臺積電手中奪回“全球最先進芯片制造商”的地位,英特爾今日向荷蘭光刻機制造商阿斯麥(ASML)訂購了一款最先進的芯片制造機(光刻機)。

這款光刻機目前仍處于設計階段,預計數(shù)年后才會交付。阿斯麥今日在財報電話會議上稱,該公司目前已收到5臺下一代光刻機的訂單,以及一臺仍在設計中的更新型號的訂單。隨后,阿斯麥和英特爾在另一份聯(lián)合聲明中稱,英特爾就是更新型號光刻機的買家。

阿斯麥最先進的商用機器被稱為“EUV光刻系統(tǒng)”,使用“極紫外光”(EUV)光波來繪制計算機芯片的電路的,其大小相當于一輛公交車,每臺成本約為1.5億美元。一家先進芯片工廠通常需要9~18臺這樣的設備。因此,光刻機是芯片制造商最大的資本開支之一。

當前,阿斯麥是此類機器的唯一制造商,其EUV客戶包括全球最大的芯片制造商,如臺積電、三星和英特爾等。

阿斯麥今日稱,現(xiàn)已收到5臺下一代光刻機的訂單,這5臺機器被稱為“High NA”EUV,將采用不同的鏡頭系統(tǒng),數(shù)值孔徑(NA)更大,每臺成本約為3億美元。第一批原型將于2023年發(fā)貨,預計要到2025年才能用于批量生產(chǎn)。

周三ASML公布的第四季度財報高于預期。此外ASML還宣布,目前已經(jīng)收到數(shù)個有五臺新型光刻機的訂單,此外還有企業(yè)訂購了一臺仍在設計中、需要數(shù)年時間才能發(fā)貨的頂級光刻機。

兩家公司在一份單獨的聯(lián)合新聞稿中表示,英特爾是這臺頂級光刻機的買家。

ASML最先進的光刻機是利用極紫外線蝕刻計算機芯片電路的極紫外(EUV)光刻機。整臺機器大小與公共汽車相當,成本約為1.5億美元。

對于芯片制造工廠而言,通常需要9到18臺光刻機,這也是芯片制造商最大開支之一。

荷蘭ASML是世界上唯一制造光刻機的廠商,EUV光刻機客戶包括臺積電、三星和英特爾等公司。

ASML表示,目前已經(jīng)收到數(shù)個有五臺新型光刻機的訂單。這種名為“High NA”光刻機的極紫外光刻機配置不同的鏡頭系統(tǒng),數(shù)值孔徑更高,機器也更大,每臺成本約為3億美元。

第一批原型機將于2023年發(fā)貨,預計要到2025年才能用于批量制造芯片。

英特爾正試圖從臺積電手中奪回芯片制造技術(shù)領(lǐng)先地位。此前英特爾曾確定自己是ASML High NA光刻機EXE:5000的第一個買家,預計這款機器將在21世紀20年代晚些時候幫助芯片制造商進一步縮小芯片尺寸。

英特爾周三表示,它還將購買第一臺EXE:5200光刻機。這款光刻機仍在設計過程中,較EXE:5000作出提高芯片生產(chǎn)率在內(nèi)的幾項改進。但兩家公司都沒有提到這款機器的售價。

阿斯麥預期2022年一季度的營收將在33-35億歐元之間,毛利率也將下降到49%。營收下降的主要原因在于快速發(fā)貨的策略,導致一季度預期營收中有20億歐元會遞延至后續(xù)季度。從全年的角度來看,公司有希望實現(xiàn)凈銷售額上升20%左右。

值得一提的是,公司強調(diào)柏林工廠失火的影響已經(jīng)被計算在內(nèi)。根據(jù)目前的情況,公司預期這場火災不會對全年產(chǎn)能造成顯著影響。

公司同時確認2021年全年分紅達到每股5.5歐元,較2020年正好翻了一倍。此外根據(jù)去年七月通過的回購計劃,公司在四季度繼續(xù)回購價值25億歐元的股票。2021年,阿斯麥通過股票回購和分紅,總共向股東返還了99億歐元。

TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA(數(shù)值孔徑)EUV光刻機,其吞吐量超每小時220片晶圓(wph)。

從路線圖來看,EXE:5200預計最快2024年底投入使用,2025年開始大規(guī)模應用于先進芯片的生產(chǎn)。

事實上,4年前,ASML的第一代高NA(0.55 NA)光刻機EXE:5000,Intel就是第一個下單的公司。不過當前的7nm、5nm芯片還并非是其生產(chǎn),而是0.33NA EUV光刻機。

和0.33NA光刻機相比,0.55NA的分辨率從13nm升級到8nm,可以更快更好地曝光更復雜的集成電路圖案,突破0.33NA單次構(gòu)圖32nm到30nm間距的極限。

外界預計,第一代高NA光刻機EXE:5000會率先用于3nm節(jié)點,至于EXE:5200,按照Intel的制程路線圖,2025年至少是20A或者18A,也就是5nm和5nm+。

此前,ASML發(fā)言人曾對媒體透露,更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時密度增加2.9倍。未來比3nm更先進的工藝,將極度依賴高NA EUV光刻機。

Intel能搶到第一單,除了和ASML一致緊密合作外,當然也是因為“鈔能力”,Gartner分析師Alan Priestley稱,0.55NA下一代EUV光刻機單價將翻番到3億美元(約合19億元人民幣)。

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