半導(dǎo)體行業(yè)收入激增，ASML優(yōu)化EUV技術(shù)欲保龍頭地位！

2022年1月25日，DISCO公布了2021財年第三季度(2021年4～12月累計)的財務(wù)業(yè)績。得益于半導(dǎo)體需求強勁，半導(dǎo)體制造商增加設(shè)備投資的拉動，DISCO銷售額同比增長41.3%，達到1802.69億日元(約人民幣99.50億元)，營業(yè)利潤同比增長72.5%，達到632.50億日元(約人民幣34.91億元)，純利潤同比增長77.6%，達到455.09億日元(約人民幣25.12億元)。DISCO表示：4～12月期間的業(yè)績達到了歷史新高。

DISCO還公布了之前未被披露過的2021財年的全年預(yù)測。預(yù)計全年銷售額將同比增長32.9%，達到2431億日元(約人民幣134.17億元)，營業(yè)利潤將增長56.9%，達到833億日元(約人民幣45.98億元)，純利潤將增長54.0%，達到602億日元(約人民幣33.23億元)。

DISCO對這一期的市場狀況進行了說明：由于半導(dǎo)體的需求強勁，包括5G和汽車領(lǐng)域，以及在全球去碳化趨勢的影響下，半導(dǎo)體制造商對設(shè)備投資意愿強烈。不限地域，包括歐美在內(nèi)，全球范圍內(nèi)整體都有強烈的設(shè)備投資意愿，因此對DISCO的半導(dǎo)體制造后端工序設(shè)備需求也很強勁。

2月9日消息，據(jù)Counterpoint報道，2021年全球半導(dǎo)體行業(yè)總銷售額創(chuàng)下5500億美元的新紀錄，隨著芯片市場需求的增加，荷蘭光刻機巨頭ASML公司作為芯片制造關(guān)鍵設(shè)備制造商，儼然成為最大幕后贏家。EUV技術(shù)是目前先進光刻機用到的主要技術(shù)之一，ASML公司目前在這一技術(shù)領(lǐng)域處于壟斷地位，2022年預(yù)計交付約60套EUV光刻機，實現(xiàn)快速出貨，填補疫情下的芯片缺口。

近日，ASML公司公布了2021財年第四季度業(yè)績，其中凈銷售額同比增長35%，毛利率創(chuàng)下歷史新高，達到52.7%，其中EUV(極紫外線)光刻機銷售額達到63億歐元(約合人民幣458億元)。為應(yīng)對技術(shù)節(jié)點的縮小，該公司還在大力投資High-NA(高數(shù)值孔徑)光刻機，預(yù)計2023年出貨5套型號為EXE:5000的High-NA光刻機。

2021年，全球半導(dǎo)體行業(yè)總銷售額達到創(chuàng)紀錄的5500億美元，Counterpoint表示，由于5G、物聯(lián)網(wǎng)、云計算、高性能計算、汽車芯片和其他領(lǐng)域需求的增加，預(yù)計到 2030 年，半導(dǎo)體行業(yè)總收入將達到 1 萬億美元。光刻技術(shù)是目前芯片生產(chǎn)的核心工藝，其中，EUV技術(shù)被認為是當前生產(chǎn)芯片的最佳工藝，，ASML公司作為光刻系統(tǒng)行業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)者，能憑借對先進 EUV 技術(shù)的大量投資和在EUV技術(shù)方面的壟斷地位，以及在老式光刻系統(tǒng)產(chǎn)品線中的主導(dǎo)地位，在未來繼續(xù)獲得較高市場估值。

ASML公司表示該公司已經(jīng)對High-NA光刻機進行了大量投資，High-NA光刻機是EUV光刻機的進一步優(yōu)化，該公司的目標是使其能夠?qū)崿F(xiàn)3nm芯片的生產(chǎn)。目前，該公司已經(jīng)收到五個EXE:5000型號(High-NA產(chǎn)品型號)的訂單，各光學(xué)掩模、光刻膠供應(yīng)商之間正在密切協(xié)作，預(yù)計在2023年完成出貨。2024年，AMSL還將推出EXE：5200型號，這是該公司下一代預(yù)計大批量生產(chǎn)的High-NA光刻機。此外，ASML公司稱，2022年至2026年，該公司凈銷售額同比增長將達到20%左右，這部分的增長將主要通過High-NA光刻機的EUV設(shè)備銷售來實現(xiàn)，到2025年，High-NA光刻機將被大規(guī)模用于DRAM芯片(Dynamic Random Access Memory)的生產(chǎn)。

光刻機全球龍頭ASML在美國的銷售額連續(xù)3年下降，與此形成鮮明對比的是，同期ASML在韓國和中國臺灣地區(qū)的銷量增幅高達3倍，證明美國對半導(dǎo)體生產(chǎn)基礎(chǔ)設(shè)施的投資不足。

據(jù)ETNews報道，ASML占全球光刻機市場的84%，并獨家供應(yīng)先進工藝所需的EUV光刻機。引進其設(shè)備的數(shù)量會影響半導(dǎo)體生產(chǎn)能力，因此其銷售額能夠被用于衡量各地區(qū)對半導(dǎo)體設(shè)備投資情況。

財報顯示，2019年到2021年，ASML在美國的收入下降了約20%。從2019年的19.8億歐元，到2020年和2021年分別減少到16.57億歐元和15.83億歐元。同期，ASML在亞洲的銷售額顯著增長。在主要的半導(dǎo)體生產(chǎn)基地韓國，銷售額從2019年的22.02億歐元增長到2021年的62.23億歐元，增長了近兩倍。

中國臺灣地區(qū)也從2019年的53.57億歐元增長到去年的73.27億歐元，增幅為37%。這是三星電子和SK海力士為擴大尖端微處理能力，引進了大量EUV光刻機的結(jié)果。臺積電大舉投資半導(dǎo)體設(shè)備，也推動了銷售的增長。在美國禁止出口ASML核心設(shè)備EUV曝光設(shè)備的中國大陸，其年銷售額也翻了一番，從2019年的13.77億歐元增至2021年的27.4億歐元。據(jù)分析，中國大陸購買的光刻設(shè)備比美國還多。除受管制的EUV設(shè)備外，主要引進了ArF、KrF、i線等光刻設(shè)備。

ASML在美國的銷量下降證明，美國在半導(dǎo)體生產(chǎn)基礎(chǔ)設(shè)施方面的投資到目前為止還不夠。到2020年，美國缺乏投資半導(dǎo)體晶圓廠的意愿。據(jù)分析，這是因為英特爾宣布進入代工領(lǐng)域的時間較晚，以及美光曾經(jīng)對EUV設(shè)備持懷疑態(tài)度。隨著美國吸引本國的半導(dǎo)體生產(chǎn)基地，ASML設(shè)備的引進預(yù)計將會加速。英特爾計劃到2025年采用ASML下一代曝光設(shè)備，美光也正式使用EUV設(shè)備。