IMEC發(fā)布報告：2036年實現(xiàn)"0.2nm"工藝
[導(dǎo)讀]近日，在比利時安特衛(wèi)普舉辦的未來峰會上，IMEC(微電子研究中心)發(fā)布報告，探討了直至2036年左右的半導(dǎo)體工藝、技術(shù)路線圖。
近日，在比利時安特衛(wèi)普舉辦的未來峰會上，IMEC(微電子研究中心)發(fā)布報告，探討了直至2036年左右的半導(dǎo)體工藝、技術(shù)路線圖。
IMEC是一家成立于1984年的權(quán)威半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)，位于歐洲，研究方向包括微電子、納米技術(shù)、信息通訊系統(tǒng)技術(shù)(ICT)、芯片制程技術(shù)、元件整合、納米技術(shù)、微系統(tǒng)和元件、封裝等各個方面。
IMEC的名氣不如Intel、ARM、ASML、臺積電、三星、中芯國際等等芯片設(shè)計、制造商，但同樣是重量級玩家，尤其是在基礎(chǔ)技術(shù)研究、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化方面扮演著至關(guān)重要的角色，與上述巨頭都有密切合作，還在與ASML合作推動EUV光刻技術(shù)。
在談?wù)撀肪€圖之前，首先解釋一點，X納米工藝行業(yè)都標(biāo)注為“Nx”(nanometer)，而在納米之后將是“埃米”，標(biāo)注為“Ax”。事實上，2nm之后就開始使用埃米了，A14就等于1.4nm。
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