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[導讀]隨著 PC 板上的接口速度越來越快,管理電磁干擾 (EMI) 是設(shè)計人員面臨的最大挑戰(zhàn)之一。無用發(fā)射的可能原因有很多。以下是一些可能導致 EMI 問題的示例:

隨著 PC 板上的接口速度越來越快,管理電磁干擾 (EMI) 是設(shè)計人員面臨的最大挑戰(zhàn)之一。無用發(fā)射的可能原因有很多。以下是一些可能導致 EMI 問題的示例:

· 跨越參考平面間隙的高速走線?

· 靠近平面邊緣的高速走線?

· 高速走線的參考平面變化

使用設(shè)計規(guī)則檢查是一種快速定位潛在 EMI 來源的方法。盡管基于規(guī)則的檢查并不完美,但它為用戶提供了許多好處。3-D EM 仿真通常用于仿真 EMI 現(xiàn)象。然而,模擬結(jié)果并沒有確定輻射的原因,它們只向您展示了 EM 場的行為方式。即使仔細檢查模擬結(jié)果,通常也無法找到輻射源。

規(guī)則檢查以消除 EMI 源

讓我們看一個使用規(guī)則檢查來定位 EMI 源的示例。圖 1 中的 PCB 具有三個 FPGA、四個 DDR3 存儲設(shè)備和四個 DDR2 設(shè)備。最常見的 EMI 來源之一是跨越間隙的高速走線。


管理 PCB 設(shè)計中的 EMI:EMI 來源和解決方案

圖 1:此 PCB 有一條穿過間隙的高速走線,可能會導致阻抗變化。

微帶線廣泛用于高速走線。它在走線的相鄰層中有一個參考平面。返回電流剛好低于信號電流(見圖 2)。該走線將具有非常穩(wěn)定的阻抗。


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圖 2:對于微帶線,參考直接位于信號跡線下方,從而產(chǎn)生穩(wěn)定的阻抗并且無需擔心 EMI。

當走線穿過參考平面的間隙時,如圖 1 中的 PCB 所示,返回電流需要繞過間隙。當間隙太大或太寬時,信號會在間隙處反射。(圖3)


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圖 3:當產(chǎn)生間隙時,產(chǎn)生的跡線形成環(huán)形天線,輻射不需要的射頻能量。

環(huán)形電流形成一個環(huán)形天線,不幸的是,它是一個高效的輻射器。

要找到跨越間隙的跡線,可以使用 Mentor Graphics HyperLynx DRC 等工具編寫和執(zhí)行規(guī)則。這些規(guī)則易于編寫,無需準備更復雜的 IBIS 模型。除了提高基于規(guī)則的方法的性能外,經(jīng)驗不足的用戶使用起來也容易得多。

易用性、高性能和無需模型允許用戶在設(shè)計過程中根據(jù)需要多次運行規(guī)則檢查。設(shè)計人員可以在設(shè)計的每個階段期間和之后運行仿真,而不是在設(shè)計結(jié)束時運行仿真(圖 4 中的上圖)。這可以很早地發(fā)現(xiàn)問題,并允許快速、廉價地糾正 EMI 問題。


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圖 4:快速簡單的規(guī)則檢查意味著您可以更頻繁地運行檢查。

3D EM Simulation

基于規(guī)則的檢查快速、準確,并且可由非專家用戶運行。盡管如此,3D EM 仿真還是有用的,但通常需要 EMI 專家。

圖 5 顯示了兩個差分對(A 和 B)穿過兩個平面間隙(藍色箭頭)。在此設(shè)計中,上對 (A) 的間隙更靠近其接收器和驅(qū)動器,而下對 (B) 的走線中間有間隙。在這種情況下,需要 3-D 電磁仿真。


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圖 5:兩個差分對(A 和 B)采用不同的路徑。哪個更關(guān)鍵?

圖 6 中的 S 圖顯示了從 Nimbic nWave 仿真結(jié)果中獲得的 S(21) 曲線。它表明通道 B(紅線)在較低頻率下具有顯著的插入損耗。這表明發(fā)生了強烈的共振,因為返回電流在中途失去了路徑。跡線 B 將導致更嚴重的 EMI 問題。


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圖 6:兩個差分對 A 和 B 的阻抗圖。

結(jié)論

如圖所示,基于規(guī)則的驗證和 3D EM 模擬相輔相成?;谝?guī)則的 EMI 檢查允許搜索和識別已知的 EMI 發(fā)生器。然后,可以在設(shè)計的早期修復有問題的布局,因為它可以快速且廉價地完成。為了進行更多分析,全 3D EM 仿真可以幫助設(shè)計人員找到困難的問題,以便他們也可以得到糾正。


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