下好創(chuàng)新"先手棋"， 安集科技功能性濕電子化學(xué)品持續(xù)發(fā)力

上海2022年10月19日 /美通社/ -- 10月17日晚間，安集科技披露業(yè)績(jī)預(yù)告。今年前三季度，公司預(yù)計(jì)實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入7.54億元至8.33億元，同比增長(zhǎng)60.24%至77.03%；歸母凈利潤(rùn)預(yù)計(jì)為1.73億元至2.34億元，同比增長(zhǎng)78.28%至141.14%；扣除非經(jīng)常性損益后的歸母凈利潤(rùn)為1.9億元至2.57億元，同比增長(zhǎng)175.9%至273.2%。

據(jù)安集科技介紹，目前，公司的產(chǎn)品包括不同系列的化學(xué)機(jī)械拋光液和功能性濕電子化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路制造和先進(jìn)封裝領(lǐng)域。

功能性濕電子化學(xué)品作為公司業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)的重要第二曲線，依靠自主創(chuàng)新，在特定領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)技術(shù)突破，下好創(chuàng)新"先手棋"，進(jìn)入發(fā)展快車道。

2007年，厚膜光刻膠剝離液 BPC1000系列誕生，采用槽式批處理機(jī)、單片機(jī)工藝，用于封裝及特色工藝。同年，鋁制程刻蝕后清洗液 IDEAL Clean系列誕生，成為首家國(guó)產(chǎn)化并出口海外的半水性刻蝕后清洗液。

2015年，拋光后清洗液 EPS1050、EPS2000系列誕生，可用于銅、鎢拋光后清洗。

2017年，銅大馬士革工藝刻蝕后清洗液 ICS8000系列誕生，水性刻蝕后清洗液實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn)，成為主流供應(yīng)商。

2020年，硬掩模銅大馬士革工藝刻蝕后清洗液 ICS9000系列誕生，采用銅互連及鈷互連工藝清洗。

2021年，安集科技實(shí)現(xiàn)功能性濕電子產(chǎn)品平臺(tái)延伸，高選擇比磷酸、新材料刻蝕液、電鍍液等，都具有不同程度發(fā)展。

對(duì)于功能性濕電子化學(xué)品的布局，安集科技定位于技術(shù)和市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者，將會(huì)針對(duì)客戶需求及市場(chǎng)的供應(yīng)能力，致力于攻克領(lǐng)先技術(shù)節(jié)點(diǎn)難關(guān)并提供相應(yīng)的產(chǎn)品和解決方案。截至目前，安集科技已成為眾多半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先客戶的主流供應(yīng)商，通過開展持續(xù)科研創(chuàng)新取得以下行業(yè)多項(xiàng)成果：

• 開啟集成電路光刻膠剝離液、刻蝕后清洗液、拋光后清洗液國(guó)內(nèi)供應(yīng)能力
• 推動(dòng)國(guó)內(nèi)集成電路刻蝕后清洗液進(jìn)入國(guó)際市場(chǎng)
• 成為國(guó)內(nèi)主流的銅大馬士革工藝刻蝕后清洗液供應(yīng)商
• 實(shí)現(xiàn)硬掩模銅大馬士革工藝刻蝕后清洗液穩(wěn)定供應(yīng)
• 擁有超60余項(xiàng)發(fā)明專利，并完成刻蝕液、電鍍液平臺(tái)延伸搭建

未來，安集科技將持續(xù)深耕，依托已有的先進(jìn)技術(shù)平臺(tái)和人才團(tuán)隊(duì)，為客戶提供高附加值的產(chǎn)品和服務(wù)。