俄羅斯放狠話：自研7nm光刻機(jī)將于2028年問世！

自2022年初俄烏沖突爆發(fā)之后，以蘋果、英特爾、AMD等為代表的西方科技巨頭紛紛暫停了自己在俄羅斯當(dāng)?shù)氐南嚓P(guān)業(yè)務(wù)，幾乎所有先進(jìn)晶圓制造商都停止了與俄羅斯實(shí)體的合作，就連ARM也無法將他們的技術(shù)授權(quán)給俄羅斯的芯片設(shè)計(jì)師。

為了解決技術(shù)被“卡脖子”的問題，俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所（IPF RAS）正在緊鑼密鼓地研發(fā)俄羅斯首套半導(dǎo)體光刻設(shè)備，并對外宣稱“這套自行研發(fā)的光刻機(jī)將于2028年問世，不僅能夠生產(chǎn)出7nm芯片，還可以擊敗ASML同類產(chǎn)品”。

根據(jù)俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機(jī)構(gòu)的一份公文顯示，該計(jì)劃將在6年內(nèi)分為三個(gè)階段實(shí)現(xiàn)：

● 第一階段：首先要在2024年開發(fā)一臺(tái)alpha機(jī)器，驗(yàn)證系統(tǒng)的全面可靠性。這一階段的重點(diǎn)不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統(tǒng)的全面性。

● 第二階段：到了2026年，將利用Beta版本取代alpha技術(shù)，屆時(shí)所有系統(tǒng)都將得到改進(jìn)和優(yōu)化，同時(shí)分辨率也將得到提升，生產(chǎn)力也將隨之提高，許多操作都將實(shí)現(xiàn)機(jī)械自動(dòng)化。這一階段的重點(diǎn)是，要將其集成到實(shí)際的技術(shù)流程中，并通過“拉起”適合其他生產(chǎn)階段的設(shè)備對其進(jìn)行調(diào)試。

● 第三階段：到了2028年，將完成所有準(zhǔn)備工作，并實(shí)現(xiàn)原型機(jī)生產(chǎn)，屆時(shí)將為光刻機(jī)帶來更強(qiáng)的光源、改進(jìn)的定位和饋送系統(tǒng)，并使得這套光刻系統(tǒng)能夠快速準(zhǔn)確地工作。

▲俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機(jī)構(gòu)發(fā)布的公文

據(jù)21ic家了解，俄羅斯此前宣布過一項(xiàng)國家計(jì)劃，那就是希望通過“逆向工程”培養(yǎng)本土化半導(dǎo)體人才，力爭在2030年突破28nm芯片制造技術(shù)。

然而，要想實(shí)現(xiàn)這個(gè)目標(biāo)并不容易，因?yàn)?strong>俄羅斯目前只能大量生產(chǎn)90nm芯片，小規(guī)模生產(chǎn)65nm芯片，暫時(shí)還無法做到更先進(jìn)的工藝。所以，在芯片制造方面還不敢奢望更為先進(jìn)的技術(shù)。

可是，IPF RAS卻認(rèn)為這項(xiàng)計(jì)劃過于保守，并對外放出豪言“6年內(nèi)就能突破7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)”。

要知道，從28nm到7nm工藝，中間間隔著至少三代以上的差距，哪怕像荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML和應(yīng)用材料等公司，按照正常情況下的發(fā)展，也要花費(fèi)十年甚至幾十年的時(shí)間才能完成。

所以，該消息一經(jīng)發(fā)布，便立刻在全球網(wǎng)絡(luò)上引發(fā)了巨大的熱議。

業(yè)界普遍認(rèn)為，IPF RAS的想法太過天真，這是一個(gè)無法完成的任務(wù)，要想在6年內(nèi)僅憑自己的力量研發(fā)出可以媲美ASML十年積淀的光刻技術(shù)，實(shí)在是有點(diǎn)難以令人相信！

另外，從各大媒體的表態(tài)來看，似乎也更愿意相信這是IPF RAS的一種“美好愿望”，最終能否實(shí)現(xiàn)還很難講，因?yàn)楣饪虣C(jī)領(lǐng)域需要的不僅僅是金錢與時(shí)間的投入，而晶圓廠也并非僅靠光刻機(jī)就能生產(chǎn)出芯片，還需要許多外圍設(shè)備，而俄羅斯目前并不滿足獨(dú)立生產(chǎn)這些設(shè)備的條件。

不過，也有網(wǎng)友對其表示欽佩，認(rèn)為俄羅斯是公認(rèn)的“戰(zhàn)斗民族”，一定會(huì)說到做到。

▲部分網(wǎng)友評論截圖

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