ASML加快拓展中國業(yè)務(wù)：支持7nm高端DUV光刻機(jī)可出口

4月28日消息，對于中國市場而言，ASML正在全力以赴，預(yù)計2023年在中國的銷售額將保持在22億歐元左右(約合人民幣超162億元)，其正在加快拓展在中國的業(yè)務(wù)和銷售。

ASML CEO Peter Wennink表示，近幾年，由于新冠疫情供應(yīng)鏈停滯，芯片行業(yè)出現(xiàn)了長達(dá)多年的短缺。而現(xiàn)在，由于全球消費(fèi)電子產(chǎn)品出貨量持續(xù)下降，科技行業(yè)又再次進(jìn)入半導(dǎo)體供應(yīng)過剩的窘境。

這位CEO還重申，中國是全球最大的計算機(jī)芯片市場，這就要求阿斯麥必須繼續(xù)獲得中國的市場準(zhǔn)入權(quán)，這是絕對必要的。

他援引中國一家汽車制造商的話稱，這家汽車制造商計劃在未來三年制造大量的電動汽車，要求六七家成熟的半導(dǎo)體工廠為其供貨，但中國本土的芯片工廠仍處于建設(shè)之中。

“阿斯麥與中國市場的往來，無論是對阿斯麥來說，還是對中國客戶來說，都十分重要。上周，阿斯麥公布了強(qiáng)勁的第一季度業(yè)績，并稱其對中國的銷售額將繼續(xù)增加?！盤eter Wennink堅定的說道。

最新財報中，中國企業(yè)占阿斯麥第一季度營收的 22%，中國買家占到阿斯麥成熟芯片制造設(shè)備訂單的3成左右，較去年底占比提升了約10%。

在這之前，ASML強(qiáng)調(diào)，新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，而只涉及所謂“最先進(jìn)”的浸潤式光刻系統(tǒng)。截至目前企業(yè)尚未收到有關(guān)“最先進(jìn)”的確切定義的信息，公司將其解讀為在資本市場日會議上定義的“關(guān)鍵的浸潤式光刻系統(tǒng)”，即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。

所謂浸沒式光刻機(jī)，屬于193nm(光源)光刻機(jī)(分為干式和浸沒式)，可以被用于16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造，但是目前也有被業(yè)界廣泛應(yīng)用在45nm及以下的成熟制程當(dāng)中。

ASML公司官網(wǎng)信息顯示，該公司主流的DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款設(shè)備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產(chǎn)品。

ASML官網(wǎng)上關(guān)于這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，其中在分辨率方面，寫到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右)，而這是指一次曝光的分辨率，事實上光刻機(jī)是可以進(jìn)行多次曝光的。

理論上NXT:1980Di依然可以達(dá)到7nm，只是步驟更為復(fù)雜，成本更高，良率可能也會有損失，晶圓廠用這一臺光刻機(jī)，大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝，因為良率低，成本高，沒什么競爭力。