ASML將攜全景光刻解決方案參加第七屆進(jìn)博會(huì)

2024年11月4日，中國(guó)上海——半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)商ASML（阿斯麥）將于11月5日至10日參加第七屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)（以下簡(jiǎn)稱“進(jìn)博會(huì)”），亮相技術(shù)裝備展區(qū)集成電路專區(qū)4.1展館A1-03展臺(tái)。在本屆進(jìn)博會(huì)上，ASML延續(xù)“光刻未來，攜手同行”的主題，將通過與時(shí)俱進(jìn)的交互式數(shù)字化形式重點(diǎn)展示其融合光刻機(jī)臺(tái)、計(jì)算光刻和量測(cè)的全景光刻解決方案，幫助客戶提升產(chǎn)能和良率。

（ASML在第七屆進(jìn)博會(huì)的展臺(tái)）

ASML全球執(zhí)行副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波表示：“今年是我們第六次參加進(jìn)博會(huì)。每年一度的進(jìn)博盛會(huì)持續(xù)體現(xiàn)了中國(guó)擴(kuò)大開放、推動(dòng)合作的承諾，其傳遞的‘共享未來’理念與ASML的企業(yè)文化高度契合。借助此次進(jìn)博會(huì)，我們希望進(jìn)一步增強(qiáng)行業(yè)內(nèi)外對(duì)于ASML全景光刻解決方案的認(rèn)知?！?/span>

今年，ASML將在展臺(tái)著重介紹全景光刻解決方案下的三款應(yīng)用廣泛的DUV光刻機(jī)和一款新型的電子束量測(cè)設(shè)備，以及計(jì)算光刻業(yè)務(wù)。參觀者可以近距離感受ASML如何憑借持續(xù)創(chuàng)新幫助客戶實(shí)現(xiàn)更多價(jià)值。

● DUV產(chǎn)品：

    ◎ NXT:1470和NXT:870：這兩款從XT氣浮平臺(tái)升級(jí)至NXT磁浮平臺(tái)的干式DUV產(chǎn)品，能為客戶顯著提升產(chǎn)能并降低單位成本；其中NXT:1470是ASML第一款應(yīng)用NXT平臺(tái)，并實(shí)現(xiàn)每小時(shí)晶圓產(chǎn)量（wph）達(dá)300片以上的干式DUV機(jī)臺(tái)。

    ◎ XT:260：即將推出的XT:260機(jī)臺(tái)是基于ASML獨(dú)有的雙工作臺(tái)技術(shù)，采用業(yè)界公認(rèn)的XT4平臺(tái)，具有雙倍視場(chǎng)曝光的i-line光刻系統(tǒng)。該產(chǎn)品能夠有效提升性能并降低單片晶圓成本，可支持從先進(jìn)封裝到主流市場(chǎng)的的廣泛應(yīng)用和發(fā)展趨勢(shì)

● 量測(cè)設(shè)備：eScan 1100是ASML第一代實(shí)現(xiàn)在線缺陷檢測(cè)（物理缺陷和電性缺陷）的多束電子束檢測(cè)系統(tǒng)，具有25條光束，可將晶圓量測(cè)吞吐量提高至單束量測(cè)系統(tǒng)的10倍以上。

● 計(jì)算光刻業(yè)務(wù)：計(jì)算光刻主要應(yīng)用于芯片的開發(fā)與制造環(huán)節(jié)，通過優(yōu)化成像光源與掩模板設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)更精確的圖形成像和更好的芯片生產(chǎn)良率。

在展臺(tái)上，ASML中國(guó)創(chuàng)新地借助人工智能生成內(nèi)容（AIGC）技術(shù)，以“光的旅程”為主題，將ASML不斷推動(dòng)科技進(jìn)步的歷程可視化——一縷從40年前公司創(chuàng)立之初啟程的微光，如今已照射至全景光刻解決方案的每條業(yè)務(wù)線，也點(diǎn)亮了現(xiàn)代科技生活的每個(gè)角落，最終穿梭到未來世界，開啟全新的科技篇章。值此公司成立40周年之際，ASML也在展臺(tái)上設(shè)置了隨處可見的40周年紀(jì)念元素和打卡區(qū)域。

在四十年的崢嶸歲月里，ASML一直致力于光刻技術(shù)的研究和發(fā)展，實(shí)現(xiàn)了無數(shù)次的技術(shù)突破與創(chuàng)新，推動(dòng)摩爾定律不斷向前發(fā)展。值得一提的是，自1988年交付首臺(tái)步進(jìn)式光刻機(jī)以來，今年也是ASML深耕中國(guó)市場(chǎng)的第36年。展望未來，ASML期待與合作伙伴一起，助力半導(dǎo)體行業(yè)可持續(xù)發(fā)展。