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[導(dǎo)讀]MOS管將是下述內(nèi)容的主要介紹對象,通過這篇文章,小編希望大家可以對MOS管的相關(guān)情況以及信息有所認(rèn)識和了解,詳細(xì)內(nèi)容如下。

MOS管將是下述內(nèi)容的主要介紹對象,通過這篇文章,小編希望大家可以對MOS管的相關(guān)情況以及信息有所認(rèn)識和了解,詳細(xì)內(nèi)容如下。

一、MOS管工作狀態(tài)解讀

我們可以將MOS管的工作狀態(tài)分為以下4個區(qū)域,以NMOS為例:

(1)截止區(qū):

當(dāng)VGS

(2)線性區(qū):

當(dāng)VGS>Vth, 且0

此時器件工作在線性區(qū),有時也稱為三極管區(qū),式中un為導(dǎo)電溝道中電子的遷移率。 Cox為單位面積的柵氧化層電容,tox為氧化層的厚度。 W和L分別為晶體管導(dǎo)電溝道的寬和長,VGS-Vth稱為過驅(qū)動電壓。

(3)飽和區(qū):

當(dāng)VGS>Vth, 且VDS>VGS-Vth時,溝道電流ID為

隨著VDS增大,當(dāng)VGS-Vth=VDS時,漏極的反型層逐漸消失,出現(xiàn)預(yù)夾斷。 當(dāng)VDS繼續(xù)增大,這夾斷點向源端移動,最終形成由耗盡層構(gòu)成的夾斷區(qū),MOS管進(jìn)入飽和區(qū)工作。 此時溝道兩端的電壓保持VDS-Vth,而VDS的增加部分降落到夾斷耗盡區(qū)內(nèi),ID幾乎不變,達(dá)到最大。

(4)擊穿區(qū)

NMOS 管的漏極—襯底PN結(jié)由于VD過高被擊穿。

需要注意的是,對于PMOS器件來說,線性區(qū)和飽和區(qū)的漏極電流公式需要加負(fù)號,VGS,VDS和VGS-Vth都是負(fù)的。 由于空穴的遷移率是電子的一半,所以PMOS具有較低的“電流驅(qū)動”能力。 換句話說,在工程應(yīng)用中,只要有可能,我們應(yīng)該更加傾向于采用NFETs而不是PFETs。

二、主要寄生參數(shù)及其對MOS管的影響

1. 源邊感抗

源邊感抗是MOS管寄生參數(shù)中最為關(guān)鍵的一種,它主要來源于晶圓DIE和封裝之間的Bonding線的感抗,以及源邊引腳到地的PCB走線的感抗。源邊感抗的存在會導(dǎo)致MOS管的開啟延遲和關(guān)斷延遲增加,因為電流的變化會被感抗所阻礙,使得充電和放電的時間變長。

此外,源感抗和等效輸入電容之間會發(fā)生諧振,這個諧振是由于驅(qū)動電壓的快速變壓形成的。諧振會導(dǎo)致G端(柵極)出現(xiàn)震蕩尖峰,影響MOS管的穩(wěn)定性。為了抑制這個震蕩,通常會加入門電阻Rg和內(nèi)部的柵極電阻Rm。然而,電阻的選擇需要謹(jǐn)慎,過大或過小的電阻都可能影響G端電壓的穩(wěn)定性和MOS管的開啟速度。

2. 漏極感抗

漏極感抗主要由內(nèi)部的封裝電感以及連接的電感組成。在MOS管開啟時,漏極感抗(Ld)起到了很好的限流作用,有效地限制了電流的變化率(di/dt),從而減少了開啟時的功耗。然而,在關(guān)斷時,由于Ld的作用,Vds電壓會形成明顯的下沖(負(fù)壓),并顯著增加關(guān)斷時的功耗。

3. 閾值電壓變化

閾值電壓(Vth)是MOS管進(jìn)入導(dǎo)通狀態(tài)所需的門極電壓。寄生參數(shù)的變化可能導(dǎo)致閾值電壓的漂移,從而影響MOS管的導(dǎo)通特性。例如,源邊感抗和漏極感抗的變化都可能引起閾值電壓的波動,導(dǎo)致MOS管在相同的門極電壓下導(dǎo)通電流的變化。

上述所有信息便是小編這次為大家推薦的有關(guān)MOS管的內(nèi)容,希望大家能夠喜歡,想了解更多有關(guān)它的信息或者其它內(nèi)容,請關(guān)注我們網(wǎng)站哦。

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