STT-MRAM自旋磁阻內(nèi)存升級GF 12nm工藝
[導讀]MRAM是一種非易失性存儲，其前景被廣泛看好，Intel、IBM、TDK、三星、希捷等行業(yè)巨頭多年來一直都在研究，讀寫速度可以媲美SRAM、DRAM等傳統(tǒng)內(nèi)存，但同時又是非易失性的，也就是可以斷電保存數(shù)據(jù)，綜合了傳統(tǒng)內(nèi)存、閃存的優(yōu)點。
STT-MRAM則進一步通過自旋電流實現(xiàn)數(shù)據(jù)寫入，具備結(jié)構簡單、成本低、損耗小、速度快等一系列優(yōu)點，只是容量密度提升困難，所以想取代內(nèi)存、閃存暫時不現(xiàn)實，但非常適合用在各種嵌入式領域。
GF、Everspin的良好合作由來已久，2012年的第一代STT-MRAM就是用GF 40nm制造的，單顆容量32MB，2019年的第二代則升級為GF 28nm，單顆容量翻了兩番達到128MB。
就在日前，GF 22FDX工藝成功試產(chǎn)了eMRAM，-40℃到125℃環(huán)境下可工作10萬個周期，數(shù)據(jù)保持可長達10年。
進一步升級到12nm，自然有利于進一步提升MRAM的容量密度，并繼續(xù)降低成本，尤其是隨著MRAM芯片容量的提高，迫切需要更先進的工藝。
GF 12nm工藝包括12LP、12LP+兩個版本，雖然算不上多先進但也有廣闊的用武之地。
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