中國(guó)還需要EUV光刻機(jī)嗎？中芯國(guó)際：暫不需要

時(shí)間：2020-07-09 09:21:33

關(guān)鍵字：中芯國(guó)際光刻機(jī)

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[導(dǎo)讀]消息來源：驅(qū)動(dòng)之家 EUV（極紫外光刻）光刻機(jī)是7nm以下節(jié)點(diǎn)制程工藝必備的，但目前來說國(guó)內(nèi)還沒有使用EUV設(shè)備。日前在回應(yīng)投資者提問時(shí)，中芯國(guó)際董事長(zhǎng)兼執(zhí)行董事周子學(xué)表示，關(guān)于設(shè)備采購(gòu)公司依據(jù)相關(guān)商業(yè)協(xié)議進(jìn)行，不對(duì)單一設(shè)備的采購(gòu)情況進(jìn)行評(píng)論。公司

消息來源：驅(qū)動(dòng)之家

EUV（極紫外光刻）光刻機(jī)是7nm以下節(jié)點(diǎn)制程工藝必備的，但目前來說國(guó)內(nèi)還沒有使用EUV設(shè)備。

日前在回應(yīng)投資者提問時(shí)，中芯國(guó)際董事長(zhǎng)兼執(zhí)行董事周子學(xué)表示，關(guān)于設(shè)備采購(gòu)公司依據(jù)相關(guān)商業(yè)協(xié)議進(jìn)行，不對(duì)單一設(shè)備的采購(gòu)情況進(jìn)行評(píng)論。公司目前量產(chǎn)和主要在研項(xiàng)目暫不需用到EUV光刻機(jī)。

光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時(shí)間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一，它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平，10nm工藝之后難度越來越大，光刻機(jī)也需要升級(jí)到EUV級(jí)別。

臺(tái)積電在第一代7nm工藝上沒有上EUV光刻機(jī)，但在7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機(jī)了，理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級(jí)別的芯片，但是成本、良率都是個(gè)問題，無法拒絕EUV光刻機(jī)。

目前EUV光刻機(jī)只有荷蘭ASML公司才能生產(chǎn)，單臺(tái)售價(jià)超過1.2億歐元，約合10億元一臺(tái)。之前的報(bào)道顯示，中芯國(guó)際已經(jīng)訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)用于先進(jìn)工藝研發(fā)，本應(yīng)該在2019年交付，不過ASML公司一直沒被批準(zhǔn)出售。

此外，高盛還預(yù)測(cè)了中芯國(guó)際的技術(shù)升級(jí)路線， 認(rèn)為中芯國(guó)際2022年可升級(jí)到7nm工藝，2024年下半年升級(jí)到5nm工藝，2025年毛利率將提升到30%以上。

在14nm工藝之后，中芯國(guó)際還有N+1、N+2代工藝，其中N+1工藝相比于14nm性能提升20％、功耗降低57％、邏輯面積縮小63％，SoC面積縮小55％，之后的N+2工藝性能和成本都更高一些，這兩個(gè)工藝都不需要EUV光刻機(jī)。

N+1工藝在去年Q4季度就完成了流片，目前正處于客戶產(chǎn)品驗(yàn)證階段，預(yù)計(jì)Q4季度量產(chǎn)。

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