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[導(dǎo)讀]7月2日消息 據(jù)外媒 prnewswire 今日報(bào)道,SK 海力士宣布,其已能夠大規(guī)模批量生產(chǎn)新一代高速 “HBM2E” DRAM 芯片。 IT之家了解到,去年 8 月 SK 海力士宣布成功研發(fā)出

7月2日消息 據(jù)外媒 prnewswire 今日報(bào)道,SK 海力士宣布,其已能夠大規(guī)模批量生產(chǎn)新一代高速 “HBM2E” DRAM 芯片。

IT之家了解到,去年 8 月 SK 海力士宣布成功研發(fā)出新一代 DRAM 內(nèi)存 / 顯存芯片 “HBM2E”。今日,海力士正式已成功量產(chǎn)這一代 HBM2E 存儲。

圖源 SK 海力士官網(wǎng)

官方稱其 HBM2E 擁有每 pin 3.6Gbps 的性能、每秒 460GB 以上的帶寬、 共 1024 個(gè) I / O(輸入 / 輸出)。HBM2E 通過 TSV(Through Silicon Via)硅穿孔技術(shù)垂直堆疊八顆 16Gb DRAM 芯片,容量達(dá)16GB,是上一代產(chǎn)品(HBM2)兩倍以上的容量。

值得一提的是,SK 海力士也是第一個(gè)研發(fā)出 HBM 存儲的廠商。首發(fā)于 2015 年的 AMD Radeon Fury 顯卡中。

海力士還表示,HBM2E 是適合深度學(xué)習(xí)加速器(deep learning accelerator)、高性能計(jì)算機(jī)等新一代人工智能(AI)系統(tǒng)的存儲器解決方案,將用于更多合作伙伴的產(chǎn)品。

注:

HBM:High Bandwidth Memory,高帶寬內(nèi)存,相較傳統(tǒng) DRAM,借助 TSV 技術(shù)提升數(shù)據(jù)處理速度的高性能、高帶寬存儲器產(chǎn)品

TSV(Through Silicon Via):硅打孔技術(shù),通過在 DRAM 芯片打上數(shù)千個(gè)細(xì)微孔并通過垂直貫通的電極連接上下芯片的技術(shù),可降低芯片功耗以及縮減芯片體積。

460GB/s 計(jì)算:以每 pin 3.6Gbps 的速度通過 1024 個(gè)數(shù)據(jù) I/O = 3686.4Gbps=460.8GB/s。

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