ASML EUV攪局半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)鏈 這些廠商壓力山大

ASML股票在1月17日上漲了7％，以199.18收盤，因?yàn)锳SML公布了過去12個(gè)月的季度銷售情況，為30.7億美元，實(shí)現(xiàn)同比增長53％，超過其預(yù)期的25.2億美元。ASML實(shí)現(xiàn)了7.7億美元的利潤，遠(yuǎn)超出了5.44億美元的分析目標(biāo)。

與此同時(shí)，Lam Research股票上漲7.7％至205.08，應(yīng)用材料上漲5.2％至57.34，KLA Tencor上漲5.4％至113.49。

首先，我將先對(duì)ASML主宰光刻行業(yè)進(jìn)行介紹；然后，對(duì)我的觀點(diǎn)——ASML盈利表現(xiàn)良好對(duì)Lam Research、應(yīng)用材料、KLA Tencor是不利的，進(jìn)行解讀。

對(duì)于邏輯器件、存儲(chǔ)器件等主流IC行業(yè)，可以利用不同技術(shù)實(shí)現(xiàn)10nm以下工藝的光刻設(shè)備商只有三家：

荷蘭ASML–EUV（極紫外光）光刻

日本尼康–浸沒式DUV（深紫外光）光刻

日本佳能–納米壓印光刻（NIL）

最初，這三家企業(yè)都是從制造傳統(tǒng)光學(xué)光刻設(shè)備起家，其技術(shù)可追溯二十世紀(jì)八十年代。隨著摩爾定律的演進(jìn)，它們的產(chǎn)品也在發(fā)生變化。如圖1所示，有多種技術(shù)可用于在晶圓表面上復(fù)制光掩模。

2016年，ASML、尼康與佳能在不同行業(yè)起到了領(lǐng)導(dǎo)性作用。圖2是I-line stepper市場份額情況，I-line stepper可為所有類型光刻工具提供最低分辨率，售價(jià)在4~6百萬美元。出售的79種工具中，大部分是升級(jí)版，因?yàn)樗鼈兊亩κr(shí)期在1990年初，但它們?nèi)匀槐粦?yīng)用于需要低分辨率的應(yīng)用場景中。