國(guó)產(chǎn)大型紫外3D直寫光刻設(shè)備下線，可用于大基板3D光刻

據(jù)蘇大維格官方透露，大型紫外3D直寫光刻設(shè)備iGrapher3000，在蘇大維格科技集團(tuán)下線，并投入工業(yè)運(yùn)行。iGrapher3000主要用于大基板上的微納結(jié)構(gòu)形貌的3D光刻，是新穎材料、先進(jìn)光電子器件的設(shè)計(jì)、研發(fā)和制造的全新平臺(tái)。

iGrapher3000此次安裝在維業(yè)達(dá)科技有限公司黃光車間，首個(gè)工業(yè)應(yīng)用項(xiàng)目是大尺寸透明導(dǎo)電膜的深槽結(jié)構(gòu)微電路模具，并將用于大面積平板成像、柔性導(dǎo)電器件和全息顯示與3D顯示研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。

蘇大維格主要從事微納關(guān)鍵技術(shù)、高端智能制造設(shè)備和功能材料的創(chuàng)新應(yīng)用，是首批認(rèn)證的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)。其光刻儀器事業(yè)部研制了多種用于MEMS芯片的光刻設(shè)備MiScan200(8”~12”)、微納光學(xué)的MicroLab(4”~8”)和超表面、裸眼3D顯示、光電子器件研究的納米光刻設(shè)備NanoCrystal(8”~32”)。

2020年1月10日，在國(guó)家科技獎(jiǎng)勵(lì)大會(huì)上，蘇大維格承擔(dān)的“面向柔性光電子的微納制造關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用”成果，獲國(guó)家科技進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)。