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[導(dǎo)讀]這些年,隨著半導(dǎo)體技術(shù)的日益復(fù)雜化,先進(jìn)制造工藝的推進(jìn)越來越充滿挑戰(zhàn)性,同時(shí)由于沒有統(tǒng)一的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),不同廠商的“數(shù)字游戲”讓這個(gè)問題更加復(fù)雜化,也讓大量普通用戶產(chǎn)生了誤解。 作為半導(dǎo)體行業(yè)的龍頭老大,

這些年,隨著半導(dǎo)體技術(shù)的日益復(fù)雜化,先進(jìn)制造工藝的推進(jìn)越來越充滿挑戰(zhàn)性,同時(shí)由于沒有統(tǒng)一的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),不同廠商的“數(shù)字游戲”讓這個(gè)問題更加復(fù)雜化,也讓大量普通用戶產(chǎn)生了誤解。

作為半導(dǎo)體行業(yè)的龍頭老大,Intel曾經(jīng)一直站在先進(jìn)制造工藝的最前沿,領(lǐng)導(dǎo)行業(yè)技術(shù)創(chuàng)新,但是近兩年,Intel似乎大大落伍了,14nm常年苦苦支撐,10nm一再推遲而且無法達(dá)到高性能,7nm最近又跳票了……

三星、臺(tái)積電則非常活躍,8nm、7nm、6nm、5nm……一刻不停。盡管很多行業(yè)專家和Intel都一再?gòu)?qiáng)調(diào),不同工廠的工藝沒有直接可比性,“數(shù)字游戲”更是誤導(dǎo)人,但在很多人心目中,Intel似乎真的落伍了。

真的嗎?當(dāng)然不是。

Intel今天就拋出了一枚重磅炸彈,10nm工藝節(jié)點(diǎn)上加入了全新的“SuperFin”晶體管,實(shí)現(xiàn)了歷史上最大幅度的節(jié)點(diǎn)內(nèi)性能提升,僅此一點(diǎn)就足以和完全的節(jié)點(diǎn)跨越相媲美。

簡(jiǎn)單地說,SuperFin的加入,幾乎等效于讓10nm變成(真正的)7nm!

歷史上,Intel一直在晶體管這一對(duì)半導(dǎo)體工藝的基石進(jìn)行變革創(chuàng)新,比如90nm時(shí)代的應(yīng)變硅(Strained Silicon)、45nm時(shí)代的高K金屬柵極(HKMG)、22nm時(shí)代的FinFET立體晶體管。

即便是飽受爭(zhēng)議的14nm工藝,Intel也在一直不斷改進(jìn),通過各種技術(shù)的加入,如今的加強(qiáng)版14nm在性能上相比第一代已經(jīng)提升了超過20%,堪比完全的節(jié)點(diǎn)轉(zhuǎn)換。

在這一代的10nm工藝節(jié)點(diǎn)上,Intel同樣融入了諸多新技術(shù),比如自對(duì)齊四重曝光(SAQP)、鈷局部互連、有源柵極上接觸(COAG)等等,但它們帶來的挑戰(zhàn)也讓新工藝的規(guī)模量產(chǎn)和高良品率很難在短時(shí)間內(nèi)達(dá)到理想水平。

盡管如此,Intel也沒有追隨改名打法,而是繼續(xù)從底層技術(shù)改進(jìn)工藝。

在最新的加強(qiáng)版10nm工藝上,Intel將增強(qiáng)型FinFET晶體、Super MIM(金屬-絕緣體-金屬)電容器相結(jié)合,打造了全新的SuperFin,能夠提供增強(qiáng)的外延源極/漏極、改進(jìn)的柵極工藝,額外的柵極間距。

SuperFi在技術(shù)層面是相當(dāng)復(fù)雜的,這里我們就長(zhǎng)話短說,只講講它的主要技術(shù)特性,以及能帶來的好處,也就是如何實(shí)現(xiàn)更高的性能,簡(jiǎn)單來說有五點(diǎn):

1、增強(qiáng)源極和漏極上晶體結(jié)構(gòu)的外延長(zhǎng)度,從而增加應(yīng)變并減小電阻,以允許更多電流通過通道。

2、改進(jìn)柵極工藝,以實(shí)現(xiàn)更高的通道遷移率,從而使電荷載流子更快地移動(dòng)。

3、提供額外的柵極間距選項(xiàng),可為需要最高性能的芯片功能提供更高的驅(qū)動(dòng)電流。

4、使用新型薄壁阻隔將過孔電阻降低了30%,從而提升了互連性能表現(xiàn)。

5、與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)相比,在同等的占位面積內(nèi)電容增加了5倍,從而減少了電壓下降,顯著提高了產(chǎn)品性能。

該技術(shù)的實(shí)現(xiàn)得益于一類新型的高K電介質(zhì)材料,它可以堆疊在厚度僅為幾埃米(也就是零點(diǎn)幾納米)的超薄層中,從而形成重復(fù)的“超晶格”結(jié)構(gòu)。這也是Intel獨(dú)有的技術(shù)。

Intel聲稱,通過SuperFin晶體管技術(shù)等創(chuàng)新的加強(qiáng),10nm工藝可以實(shí)現(xiàn)節(jié)點(diǎn)內(nèi)超過15%的性能提升!

當(dāng)然,一如之前的各代工藝,Intel 10nm也不會(huì)到此為止,后續(xù)還會(huì)有更多大招加入,繼續(xù)提升性能—;—;看起來還是10nm,但已經(jīng)不再是簡(jiǎn)單的10nm。

10nm SuperFin晶體管技術(shù)將在代號(hào)Tiger Lake的下一代移動(dòng)酷睿處理器中首發(fā),現(xiàn)已投產(chǎn),OEM筆記本將在今年晚些時(shí)候的假日購(gòu)物季上市。

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