[導讀]第二代EUV光刻機原本預計最快2023年問世，但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票，而且一下子就跳票三年，要到2025-2026年才有可能問世了。
要知道，ASML是全球唯一一家量產EUV光刻機的。臺積電、三星、Intel的7nm、5nm，以及未來的3nm、2nm都要依賴EUV光刻機，單臺售價超過1億美元，成本極高。
目前，ASML的EUV光刻機使用的還是第一代，EUV光源波長在13.5nm左右，物鏡的NA數值孔徑是0.33，發(fā)展了一系列型號。
其中，最早量產出廠的是NXE:3400B，其產能有限，一小時生產晶圓是125PWH；目前的出貨主力是NXE:3400C，產能提升到了135WPH；今年年底還有NXE:3600D系列出貨，產能再進一步提升到160WPH，不過價格也會上漲到1.45億美元。
現在第一代的EUV光刻機NA指標太低，第二代EUV光刻機會是NXE:5000系列，其物鏡的NA將提升到0.55，進一步提高光刻精度，半導體工藝突破1nm工藝就要靠下一代光刻機了。
然而，NA 0.55的二代EUV光刻機沒那么容易，原本預計最快2023年問世，但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票，而且一下子就跳票三年，要到2025-2026年才有可能問世了。
（資料圖）
不僅時間延期，二代EUV光刻機的價格也會大漲，預計將會達到3億美元，是現有EUV光刻機的2-3倍。這意味著，未來的芯片工藝成本極其昂貴，哪怕真能做到1nm工藝，那高昂的成本也會讓大多數公司退而卻步。
如果照此發(fā)展下去，估計1nm工藝的大客戶就剩下蘋果自己了。
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