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[導(dǎo)讀]與包括SiC MOSFET、硅MOSFET和GaN HEMT在內(nèi)的其他可用功率晶體管相比,常開(kāi)型SiC JFET的單位芯片面積具有更低的導(dǎo)通阻抗。如圖1a所示,當(dāng)?shù)蛪篗OSFET堆疊在JFET上時(shí),為了實(shí)現(xiàn)圖1b的共源共柵架構(gòu),就形成了低阻抗常關(guān)斷型開(kāi)關(guān)

功率半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)通常在用于電路設(shè)計(jì)時(shí),能夠在不增加開(kāi)關(guān)損耗的情況下減小電流傳導(dǎo)期間的損耗,這是其一大優(yōu)勢(shì)。在各種電路保護(hù)應(yīng)用中,器件需要連續(xù)傳送電流,較低的傳導(dǎo)態(tài)損耗有利于使系統(tǒng)保持較高的效率,并將產(chǎn)生的廢熱降至最低。如果在這些應(yīng)用中需要放心地使用這些功率開(kāi)關(guān),必須滿足各種類型的耐用性標(biāo)準(zhǔn)。

在本文中,我們將討論最先進(jìn)的低阻抗功率半導(dǎo)體開(kāi)關(guān),介紹其關(guān)鍵特性和應(yīng)用優(yōu)勢(shì)。這些開(kāi)是由UnitedSiC開(kāi)發(fā),采用堆疊式共源共柵(cascode)技術(shù),其中將一個(gè)特殊設(shè)計(jì),阻抗低于1mΩ的硅低壓MOSFET堆疊在一個(gè)阻抗低于10mΩ的650~1200V常開(kāi)型碳化硅(SiC) JFET之上。所形成的復(fù)合器件被稱為SiC FET,可以像標(biāo)準(zhǔn)硅器件一樣進(jìn)行驅(qū)動(dòng),但是與硅IGBT、硅MOSFET和SiC MOSFET相比,具有許多優(yōu)勢(shì)。

什么是堆疊式共源共柵?

與包括SiC MOSFET、硅MOSFET和GaN HEMT在內(nèi)的其他可用功率晶體管相比,常開(kāi)型SiC JFET的單位芯片面積具有更低的導(dǎo)通阻抗。如圖1a所示,當(dāng)?shù)蛪篗OSFET堆疊在JFET上時(shí),為了實(shí)現(xiàn)圖1b的共源共柵架構(gòu),就形成了低阻抗常關(guān)斷型開(kāi)關(guān),稱為堆疊式共源共柵,其阻抗是低壓MOSFET和SiC JFET阻抗之和,根據(jù)所選擇的MOSFET和JFET的不同,其阻抗可能比JFET阻抗高5~20%。

顯示了8.6mΩ,1200V堆疊芯片UF3SC12009Z的尺寸。由于在組裝之前將低壓MOSFET預(yù)堆疊在JFET上,因此該復(fù)合器件與標(biāo)準(zhǔn)組裝管芯連接和引線鍵合設(shè)備兼容。而且,很有意義的是,該器件適合用于電源模塊,并且還可通過(guò)TO247-4L封裝提供(器件名稱UF3SC12009K4S)。

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