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[導(dǎo)讀]21ic訊 安森美半導(dǎo)體(ON Semiconductor)加入了領(lǐng)先納米電子研究中心imec的多合作伙伴業(yè)界研究及開發(fā)項(xiàng)目,共同開發(fā)下一代硅基氮化鎵(GaN-on-Si)功率器件。氮化鎵具有優(yōu)異電子遷移率、更高擊穿電壓及良好導(dǎo)熱性的特性

21ic訊 安森美半導(dǎo)體(ON Semiconductor)加入了領(lǐng)先納米電子研究中心imec的多合作伙伴業(yè)界研究及開發(fā)項(xiàng)目,共同開發(fā)下一代硅基氮化鎵(GaN-on-Si)功率器件。

氮化鎵具有優(yōu)異電子遷移率、更高擊穿電壓及良好導(dǎo)熱性的特性,使其非常適合于要求高開關(guān)能效的功率器件及射頻(RF)器件。如今,基于氮化鎵的功率器件成本過高,不適合大批量制造,因?yàn)樗鼈兪褂梅菢?biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)工藝在小半徑的晶圓上制造。

imec的廣泛規(guī)模研究項(xiàng)目著重于開發(fā)200 mm晶圓上的硅基氮化鎵技術(shù),及降低氮化鎵器件成本和提升性能。imec匯聚領(lǐng)先集成器件制造商(IDM)、晶圓代工廠、化合物半導(dǎo)體公司、設(shè)備供應(yīng)商及襯底供應(yīng)商,已經(jīng)卓有成效地取得重大技術(shù)進(jìn)步。

2011年,imec的研究項(xiàng)目成功地生產(chǎn)出200 mm硅基氮化鎵晶圓,該工藝讓標(biāo)準(zhǔn)高生產(chǎn)率200 mm晶圓廠隨手可得。此外,imec開發(fā)了兼容于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝及工具的制造工藝,這是高性價(jià)比工藝的第二個(gè)先決條件。

安森美半導(dǎo)體高級副總裁兼首席技術(shù)官(CTO) Hans Stork說:“身為提供寬廣陣容高能效器件的全球20大半導(dǎo)體供應(yīng)商之一,安森美半導(dǎo)體氮化鎵技術(shù)研究已持之多年,如今正在公司的比利時(shí)Oudenaarde生產(chǎn)廠建設(shè)氮化鎵工藝線。與imec合作,將鞏固我們現(xiàn)有的市場地位,并將可幫助我們?yōu)榭蛻粼黾佑懈偁幜Φ那把丶夹g(shù)。我們期待與想法相近的公司聯(lián)盟協(xié)作,在此領(lǐng)域進(jìn)行前瞻性研究。”

安森美半導(dǎo)體加入imec的硅基氮化鎵研究項(xiàng)目

imec采用200 mm CMOS兼容型硅基氮化鎵工藝的功率器件

imec智能系統(tǒng)及能源技術(shù)副總裁Rudi Cartuyvels說:“我們的硅基氮化鎵聯(lián)合項(xiàng)目持續(xù)出現(xiàn)非凡進(jìn)展,不斷推動降低生產(chǎn)成本。安森美半導(dǎo)體最新加盟成為策略項(xiàng)目合作伙伴,進(jìn)一步推進(jìn)我們的集體專知。充分利用聯(lián)合研究將幫助我們克服邁向經(jīng)濟(jì)的大批量制造的下一個(gè)關(guān)卡,最終將氮化鎵功率器件面市。”

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