EUV光刻機(jī)之戰(zhàn)，ASML坐收漁翁之利

《巴倫》報(bào)導(dǎo)，芯片設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾ASML的表現(xiàn)，可能要比大多數(shù)人想像的要好，瑞士信貸分析師Farhan Ahmad即認(rèn)為，艾司摩爾的產(chǎn)品是芯片制造商臺(tái)積電與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手三星電子( 005930-KR )爭(zhēng)奪霸主地位的關(guān)鍵要素，估計(jì)可以在鷸蚌相爭(zhēng)中，漁翁得利。

《巴倫》報(bào)導(dǎo)顯示，Ahmad 于1 月份便把艾司摩爾股價(jià)評(píng)級(jí)調(diào)高至「優(yōu)于大盤」，Ahmad 并特別指出，「最近對(duì)EUV 工具(極紫外光刻Extreme UV，EUV) 的謠言眾多。我們的調(diào)查表明，EUV 的前景并不是減弱，而是增強(qiáng)。ASML 有望其2019 年EUV 產(chǎn)量訂單全滿」。

他指出，臺(tái)積電「在4月2日向ASML和Lasertec下了大約10億美元的訂單」，認(rèn)為「很可能在第1季度財(cái)報(bào)上顯示為6至8種工具的訂單量」。

Ahmad 寫道：

「三星繼續(xù)在EUV 上砸重本。最近的資料顯示，除了7 納米外，三星可能會(huì)在10 納米級(jí)DRAM 的部份制造上采用EUV 進(jìn)行。

因三星計(jì)劃用EUV 制造低風(fēng)險(xiǎn)DRAM，DRAM 的產(chǎn)品產(chǎn)出有望早于7 納米出爐，這也是為了擴(kuò)大7 納米生產(chǎn)全面使用EUV 的計(jì)劃之一」。

三星正行銷其設(shè)計(jì)靈活性、更短的周期時(shí)間、及更小的模具，作為7 納米制程的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。三星也正在建設(shè)一個(gè)由DRAM 和Logic 共享的38 臺(tái)EUV 工具的EUV 專用工廠」。

Ahmad 認(rèn)為臺(tái)積電「可能需要加快5 納米的腳步，以確保與三星的競(jìng)爭(zhēng)力」。5 納米技術(shù)將是ASML 在臺(tái)積電的EUV 真正發(fā)光的時(shí)期。Ahmad 繼續(xù)寫道：

「臺(tái)灣有報(bào)導(dǎo)稱臺(tái)積電客戶對(duì)7 納米的興趣不高。這是可以理解的，因?yàn)? 納米不能提供與EUV 單一圖案化相關(guān)的設(shè)計(jì)靈活性，而其EUV 制程只被用于裁焊VIA孔(無需改變?cè)O(shè)計(jì))。

同時(shí)，7 納米本預(yù)計(jì)為在廣泛使用EUV 制程的5 納米(真正的7 納米)節(jié)點(diǎn)前的試車前奏。

我們一直堅(jiān)持認(rèn)為7 納米的采用可能僅限于少數(shù)幾層芯片上，并且僅限于一部分容量而已。我們預(yù)計(jì)臺(tái)積電將在2019 年初開始生產(chǎn)7 納米產(chǎn)品，并準(zhǔn)備在2020 年量產(chǎn)5 納米。

為了滿足產(chǎn)能需求，臺(tái)積電需要在2019 年開始安裝相關(guān)工具機(jī)臺(tái)。我們認(rèn)為ASML 最近的工具訂單是來自于臺(tái)積電，也表示臺(tái)積電正在努力加強(qiáng)其5 納米計(jì)劃」。

受惠于各家晶圓代工廠，包括臺(tái)積電、三星、格芯等企業(yè)紛紛宣布將在2018 年導(dǎo)入7納米先進(jìn)制程的情況下，EUV極紫外光光刻機(jī)在其中所扮演的關(guān)鍵角色就越來越重要。目前，ASML占據(jù)著高達(dá) 80% 的市場(chǎng)，壟斷了高端光刻機(jī)的市場(chǎng)。過去，在14及16納米制程階段，各家代工廠的及紫外光光刻機(jī)都是來自 ASML。因此，不但帶動(dòng)了2017年ASML整體營(yíng)收成長(zhǎng)33.2%，未來更被看好后續(xù)的發(fā)展?fàn)顩r。

ASML Wennink表示，展望本季，ASML預(yù)估營(yíng)收將達(dá)22億歐元(相當(dāng)于季減14.1%)、毛利率預(yù)估將介于47-48%之間。2018年ASML預(yù)期銷售和盈利能力將持續(xù)穩(wěn)健增長(zhǎng)。