臺(tái)灣團(tuán)隊(duì)成功研發(fā)出單原子層二極體,厚度僅 0.7 nm
積體電路制程突破,由成功大學(xué)物理系吳忠霖教授、國(guó)家同步輻射研究中心陳家浩博士等人組成的團(tuán)隊(duì),成功研發(fā)出僅單原子層厚度(0.7 nm)且具優(yōu)異邏輯開(kāi)關(guān)特性的二硒化鎢二極體。據(jù)團(tuán)隊(duì)說(shuō)法,負(fù)責(zé)運(yùn)算的傳輸電子被限定在單原子層內(nèi),將大幅降低干擾并增加運(yùn)算速度,若未來(lái)應(yīng)用在數(shù)位裝置,運(yùn)算速度預(yù)期可超過(guò)現(xiàn)今電腦千倍、萬(wàn)倍。
市場(chǎng)上,臺(tái)積電正在發(fā)展 3 nm投資計(jì)劃,3 nm制程新廠預(yù)計(jì) 2022 年底第一期開(kāi)始量產(chǎn);而實(shí)驗(yàn)室中的科學(xué)家則積極尋找能微縮至原子尺度(小于 1 nm)的電晶體材料,希望讓數(shù)位裝置變得更加輕薄、效率更高。
壓縮至原子級(jí)的二維材料具有許多獨(dú)特物理與化學(xué)特性,比如材料界神話石墨烯(Graphene),就是第一個(gè)被發(fā)現(xiàn)僅碳原子厚度的二維材料,導(dǎo)電度極佳。此外,由于厚度極薄,透過(guò)堆棧不同類型的二維材料能展現(xiàn)出不同功能性。
但成功大學(xué)物理系教授吳忠霖說(shuō),石墨烯不容易成為半導(dǎo)體材料,因此團(tuán)隊(duì)決定選用另一種與石墨烯同屬二維材料的過(guò)渡金屬硫?qū)倩衔?Transition Metal Dichalcogenides,TMDs):二硒化鎢(WSe 2 ),并成功研發(fā)出厚度僅 0.7 nm、又具優(yōu)異邏輯開(kāi)關(guān)特性的二硒化鎢二極體。
相比以往傳統(tǒng)的硅半導(dǎo)體材料,吳忠霖說(shuō),二硒化鎢二極體厚度上已超越三nm制程極限,可完全滿足次世代積體電路所需更薄、更小、更快的需求。
在實(shí)驗(yàn)中,團(tuán)隊(duì)也利用單層二硒化鎢半導(dǎo)體與鐵酸鉍氧化物所組成的二維復(fù)合材料,展示調(diào)控二維材料電性無(wú)需金屬電極,就能打開(kāi)、關(guān)閉電流以產(chǎn)生 1 和 0 邏輯訊號(hào),能大幅降低電路制程與設(shè)計(jì)復(fù)雜度,避免短路、漏電或互相干擾的情況發(fā)生。
雖然該研究成果還只限于實(shí)驗(yàn)室中,但未來(lái)若能將此單原子層二極體組合成各種積體電路,由于負(fù)責(zé)運(yùn)算的傳輸電子被限定在單原子層內(nèi),將能大幅增加運(yùn)算速度,預(yù)期可超過(guò)現(xiàn)今電腦運(yùn)算速度千倍甚至萬(wàn)倍,而且耗能量極少,可滿足人工智能芯片或機(jī)器學(xué)習(xí)的大量運(yùn)算需求,或者未來(lái)手機(jī)充一次電可以使用長(zhǎng)達(dá) 1 個(gè)月。