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[導(dǎo)讀] MIT研究人員發(fā)現(xiàn)一種用于大規(guī)模生產(chǎn)昂貴電路的新型「復(fù)制/貼上」方法,在制造上覆石墨稀的「供體」晶圓后,采用「沉積-剝離」的方式,降低電路與下層晶圓的成本。

 MIT研究人員發(fā)現(xiàn)一種用于大規(guī)模生產(chǎn)昂貴電路的新型「復(fù)制/貼上」方法,在制造上覆石墨稀的「供體」晶圓后,采用「沉積-剝離」的方式,降低電路與下層晶圓的成本。

美國(guó)麻省理工學(xué)院(MIT)的研究人員最近發(fā)明了一種用于大規(guī)模生產(chǎn)昂貴電路的新型「復(fù)制/貼上」(copy/paste)方法。 這項(xiàng)技術(shù)是在制造上覆石墨稀的「供體」(donor)晶圓后,采用「沉積-剝離」(復(fù)制/貼上)的方式,從而降低電路與下層晶圓的成本。

該技術(shù)能有助于制造商以較簡(jiǎn)單且低成本的方式,結(jié)合硅(Si)以及諸如用于晶體管管信道的砷化鎵(GaAs)等昂貴材料。

麻省理工學(xué)院教授Jeehwan Kim表示,「我們利用了石墨烯的強(qiáng)度及其潤(rùn)滑的特質(zhì),而非其電氣性能,因而可制造昂貴材料的極薄電路,從而大幅降低使用特殊材料的總成本。 」

例如,目前,英特爾(Intel)、IBM等許多制造商正致力于硅晶圓上生長(zhǎng)GaAs晶體管信道,但由于硅與GaAs之間的晶格無(wú)法匹配,終究無(wú)法達(dá)到高質(zhì)量的結(jié)果。 然而,據(jù)Kim表示,采用遠(yuǎn)程外延的方式,能夠分別從石墨烯頂部供體晶圓剝離的GaAs薄層上制造這些GaAs信道,并接合于硅晶圓上,而不至于造成任何晶格不匹配的問(wèn)題。

研究人員利用僅沉積單原子層厚的石墨烯單層方式,形成了供體晶圓。 由于石墨烯接合至供體晶圓頂部且「可滑動(dòng)」,因而可在此堆棧頂部制造昂貴的材料薄層,而又不至于黏在該供體晶圓上。 Kim的研究團(tuán)隊(duì)再?gòu)墓w晶圓上簡(jiǎn)單地剝離昂貴的頂部半導(dǎo)體層,然后移植到低廉的基板(例如硅基板)上。 這種低成本的基板甚至可用芯片中的源極與汲極制圖,然后進(jìn)行蝕刻而將GaAs信道添加到其他的CMOS電路。 由于不存在晶格不匹配的問(wèn)題,所取得具有GaAs信道的硅晶晶體管將超越今所用的任何硅信道晶體管。

研究人員在石墨烯上生長(zhǎng)發(fā)光二極管(LED),剝離后再放置于另一基板上 (來(lái)源:MIT)

由于石墨烯比鋼強(qiáng)600倍,而且能與下方供體晶圓緊密地接合,使得這一過(guò)程得以不斷地重復(fù),如同用于大規(guī)模生產(chǎn)橡膠車(chē)輪的鋼模具,有助于石墨烯大量生產(chǎn)結(jié)合特殊材料的CMOS晶圓。 這些特殊材料本身還可用于LED、太陽(yáng)能電池、高功率晶體管或其他組件。 研究團(tuán)隊(duì)宣稱,單供體晶圓采用這種「復(fù)制-貼上」的方式目前還沒(méi)有次數(shù)的限制。

該研究團(tuán)隊(duì)已經(jīng)實(shí)驗(yàn)證實(shí)了采用特殊材料降低成本的可行性,包括GaAs、磷化銦(InP)和磷化鎵(GaP)等特殊材料,他們還將特殊材料的主動(dòng)層移植到低成本的軟性基板上,成功地制造出LED。

從硅晶圓上剝離鎳薄膜,展現(xiàn)使用2D材料轉(zhuǎn)換晶圓制程的概念 (來(lái)源:Jose-Luis Olivares / MIT)

接下來(lái),研究人員計(jì)劃嘗試用于服裝和其他穿戴式材料上的技術(shù),并試圖堆棧多層以創(chuàng)造更復(fù)雜的組件。

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