沒有EUV光刻機，大陸廠商在7nm之戰(zhàn)中毫無勝算？

基于三星10nm制程工藝的驍龍835早已隨著三星S8、小米6等一眾手機面世，而基于臺積電10nm制程工藝的聯(lián)發(fā)科Helio X30也和魅族Pro 7系列手機一起亮相了。除此之外麒麟970及A11處理器將于今秋和消費者見面，各家產(chǎn)品雖有強有弱但手機芯片的10nm時代已經(jīng)展開，下一步就是向7nm推進(jìn)，工藝推動者無疑就是三星和臺積電這兩家已較勁了幾代制程的業(yè)者了。

對于7nm制程工藝，三星和臺積電兩大晶圓代工領(lǐng)域巨頭都早已入手布局以便爭搶IC設(shè)計業(yè)者們的訂單。其中三星原定于明年破土動工的韓國華城18號生產(chǎn)線動工時間已被提前到了今年11月，以便在2019年能夠進(jìn)入7nm制程量產(chǎn)階段。值得注意的是三星華城18號生產(chǎn)線將會架設(shè)10多臺極紫外光(EUV)設(shè)備。而根據(jù)早前的報道，目前臺積電在7nm上已有12個產(chǎn)品設(shè)計定案，第一代7nm將在2018年實現(xiàn)量產(chǎn)(一說為年前實現(xiàn)量產(chǎn))，第二代7nm則會在2019年實現(xiàn)量產(chǎn)，并導(dǎo)入極紫外光技術(shù)。

不論是三星還是臺積電在7nm上都將引入EUV設(shè)備，而這種被視為延續(xù)摩爾定律的設(shè)備的研發(fā)正是因為制程工藝進(jìn)入10nm后難度驟增，193nm光刻技術(shù)不足以應(yīng)付7nm、5nm的需要，所以寄希望于研發(fā)EUV光刻工藝來推動制程進(jìn)步。

7nm制程的進(jìn)度在一定程度上也是被EUV設(shè)備所控制的，而EUV設(shè)備卻是被荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備廠商ASML所控制的。據(jù)悉ASML是一家從事半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)計、制造及銷售的企業(yè)，于1984年從飛利浦獨立出來，在去年先后宣布收購漢微科及蔡司半導(dǎo)體24.9%股份。這家壟斷了高端光刻機市場的廠商股東中有三家就是我們耳熟能詳?shù)挠⑻貭?、臺積電和三星。而據(jù)其公布的2017第二季財報顯示，公司該季營收凈額為21億歐元，毛利率為45%。

EUV光刻機研發(fā)難度非常大因此單臺價格高昂至少要1億多歐元，但這種價值連城的設(shè)備還不是有錢就能買到的，如受限于《瓦森納協(xié)定》，大陸的廠商就買不到最高端的光刻機設(shè)備。此外，由于EUV光刻機生產(chǎn)難度和成本都非常大，導(dǎo)致稱霸了該領(lǐng)域的ASML年產(chǎn)量也只有12臺。不過有報道稱，ASML正在提升生產(chǎn)效率，或能在2018年將產(chǎn)能增加到24臺，2019年達(dá)到40臺。

對于大力投入集成電路發(fā)展的大陸，ASML雖然不能出售最高端的設(shè)備，但是也有其他的合作方式。3月份時，與上海微電子裝備(集團)股份有限公司簽署了戰(zhàn)略合作備忘錄;6月份時，宣布與上海集成電路研究開發(fā)中心合作，將共同建立一個培訓(xùn)中心。而國內(nèi)對于高端光刻機設(shè)備的研究也十分重視，由長春光機所牽頭承擔(dān)的國家科技重大專項02專項——“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項目已于今年6月在評審專家組的一致同意下通過了項目驗收，這是我國極紫外光刻核心光學(xué)技術(shù)水平提升的重要一步。