應(yīng)用材料全新Centris刻蝕系統(tǒng)SEMICON Japan亮相

時(shí)間：2010-12-01 04:10:00

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[導(dǎo)讀]應(yīng)用材料11月30日宣布推出全新的 Centris? AdvantEdge? Mesa?刻蝕系統(tǒng)，主要針對(duì)45nm以下存儲(chǔ)和邏輯芯片市場。結(jié)構(gòu)緊湊的Centris系統(tǒng)裝配了8個(gè)反應(yīng)腔，即6個(gè)刻蝕反應(yīng)腔和2個(gè)刻蝕后清潔腔，每小時(shí)可處理多達(dá)180片硅片

應(yīng)用材料11月30日宣布推出全新的 Centris? AdvantEdge? Mesa?刻蝕系統(tǒng)，主要針對(duì)45nm以下存儲(chǔ)和邏輯芯片市場。結(jié)構(gòu)緊湊的Centris系統(tǒng)裝配了8個(gè)反應(yīng)腔，即6個(gè)刻蝕反應(yīng)腔和2個(gè)刻蝕后清潔腔，每小時(shí)可處理多達(dá)180片硅片，最多可將單片硅片的制造成本降低30%。同時(shí)Centris系統(tǒng)在腔體設(shè)計(jì)上實(shí)現(xiàn)了突破，極大的提高了CD的均勻一致性，將其變化范圍控制在0.8nm以內(nèi)。

據(jù)介紹，2010年金屬刻蝕設(shè)備市場約為16.8億美元，隨著線寬的縮小，雙掩膜工藝必將對(duì)刻蝕的工藝要求越來越高，涉及的工藝步驟也越來越多，正是看好這一市場的巨大發(fā)展?jié)摿?，?yīng)用材料投入巨資開發(fā)了全新的平臺(tái)。公司副總裁兼刻蝕事業(yè)部總經(jīng)理Ellie Yieh介紹，目前Centris系統(tǒng)已經(jīng)在2家DRAM客戶、1家DRAM＋FLASH產(chǎn)品客戶及1家邏輯客戶試用，并獲得了良好的客戶反饋。

Applied Centris AdvantEdge刻蝕系統(tǒng)同樣為綠色工藝開辟了一條新的道路。和市場上現(xiàn)有的硅刻蝕系統(tǒng)相比，該系統(tǒng)每年減少的耗電量、耗水量和耗氣量相當(dāng)于減排60萬磅二氧化碳。

據(jù)介紹，應(yīng)用材料在刻蝕設(shè)備領(lǐng)域的全球市場份額為30％左右，每年投入研發(fā)的費(fèi)用保持在10億美元左右。此次應(yīng)用材料發(fā)力全新刻蝕系統(tǒng)，志在改寫刻蝕設(shè)備的全球市場格局，同時(shí)也讓我們?cè)俅胃惺艿搅税雽?dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新的無限生機(jī)。