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[導(dǎo)讀]晶圓雙雄爭搶20奈米地盤鳴槍起跑! 晶圓代工「二哥」聯(lián)電(2303)攻進(jìn)20奈米,昨(29)日宣布已取得IBM技術(shù)授權(quán),將以FinFET 3D電晶體,促進(jìn)次世代先進(jìn)20奈米CMOS制程開發(fā),與最快年底試產(chǎn)的臺積互別苗頭。 聯(lián)電昨

晶圓雙雄爭搶20奈米地盤鳴槍起跑! 晶圓代工「二哥」聯(lián)電(2303)攻進(jìn)20奈米,昨(29)日宣布已取得IBM技術(shù)授權(quán),將以FinFET 3D電晶體,促進(jìn)次世代先進(jìn)20奈米CMOS制程開發(fā),與最快年底試產(chǎn)的臺積互別苗頭。

聯(lián)電昨天下午宣布已取得IBM所授權(quán)技術(shù),這項(xiàng)好消息也反映在股價(jià)上,昨天股價(jià)一路放量攻高,終場收在漲停價(jià)12.9元,單日成交量更放大至7萬張以上。


聯(lián)電指出,據(jù)雙方協(xié)議,IBM將授權(quán)其20奈米設(shè)計(jì)套件以及FinFET技術(shù)給聯(lián)電,聯(lián)電將可運(yùn)用這些技術(shù),加快推出這些制程給客戶采用的時(shí)程,對于公司財(cái)務(wù)、業(yè)務(wù)將具正面助益。

聯(lián)電先進(jìn)技術(shù)開發(fā)副總陳一浸表示,聯(lián)電身為全球晶圓專工領(lǐng)導(dǎo)者,必須掌握先機(jī)適時(shí)推出尖端制程,以協(xié)助客戶實(shí)現(xiàn)其次世代晶片設(shè)計(jì)。借重IBM的專業(yè)技術(shù)來縮減聯(lián)電20奈米與FinFET研發(fā)周期,將為該公司與客戶創(chuàng)造雙贏。這項(xiàng)研發(fā)將在聯(lián)電位于南科的研發(fā)中心進(jìn)行。

聯(lián)電與IBM兩家公司的協(xié)議內(nèi)容包括IBM的20奈米CMOS與FinFET技術(shù),聯(lián)電指出,內(nèi)部自行研發(fā)的20奈米平面(planar)制程,將與IBM的設(shè)計(jì)規(guī)則與制程/元件目標(biāo)同步,未來FinFET技術(shù)將針對行動運(yùn)算與通訊產(chǎn)品,做為更強(qiáng)化的低耗電技術(shù)選項(xiàng)。

聯(lián)電表示,28奈米制程才正要量產(chǎn),在取得IBM技術(shù)授權(quán)后,將可加速20奈米制程開發(fā)時(shí)程,但目前并沒有時(shí)間表,整體試量產(chǎn)時(shí)間還要視客戶端需求而定。

隨著聯(lián)電宣布投入20奈米與3D IC研發(fā),代表晶圓雙雄的戰(zhàn)場又將由28奈米制程延伸到20奈米。

為擴(kuò)大28奈米制程的領(lǐng)先優(yōu)勢,并提前跨入20奈米制程,臺積電已于4月底宣布拉高資本支出至80億元到85億美元,預(yù)期臺積電的20奈米制程最快可在今年底、明年初試產(chǎn),并于明年底、后年初正式量產(chǎn),拉大與競爭對手的差距。

【記者謝佳雯/臺北報(bào)導(dǎo)】



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