2011韓國半導體光刻膠需求預計達2.58億美元

在半導體制程中，曝光制程非常重要，因此作為其核心材料的光刻膠(Photoresist)占較大的生產(chǎn)成本，在技術與產(chǎn)業(yè)方面的重要性也非常高。根據(jù)DisplayBank統(tǒng)計，2011年用于韓國國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)的光刻膠量約為25萬~30萬加侖，產(chǎn)值約達3,000億韓元（約2.58億美元）的規(guī)模。

其中，用于韓國半導體產(chǎn)業(yè)的光刻膠中，KrF(KrFEximerLaser，248nm曝光)的市占率約達5成，而ArFImmersion(ArFEximerLaser，Wet制成，193nm曝光)與ArFDry(ArFEximerLaser，Dry制成，193nm曝光)的合計市占率約達25%；另外，高價位光刻膠ArFImmersion產(chǎn)品的年銷售額，約達1,000億韓元。

韓國的內(nèi)存與半導體產(chǎn)業(yè)擁有全球領先的技術實力，因此光刻膠企業(yè)也非常重視韓國市場。供應韓國企業(yè)光刻膠的廠商有2家韓國廠商，包括東進化學、錦湖石油化工，另外有5家日本廠商，包括住友化學、TOK、信越、JSR、FFEM，以及收購羅門哈斯(RohmandHaas)的陶氏化學等。

其中，住友化學、TOK、信越、JSR及陶氏化學，在KrF以上等級的產(chǎn)品領域競爭非常激烈，韓國廠商錦湖石油化學對海力士(Hynix)半導體，供應大量的ArFDry產(chǎn)品以及部分ArFImmersion產(chǎn)品。東進化學雖在LCD用產(chǎn)業(yè)光刻膠的供給比例較高，但在半導體領域仍只供應KrF以下等級部分產(chǎn)品。

DisplayBank指出，內(nèi)存與半導體領域的領導廠商三星電子(SamsungElectronics)與海力士，在技術、銷售額、利潤及市占率等方面，與日本及臺灣廠商的差距越來越擴大，因而韓國市場成為光刻膠產(chǎn)業(yè)的重要市場。同時，未來在韓國光刻膠市場上各專業(yè)廠商之間的競爭也將會愈演愈烈。

另外，光刻膠除了用于半導體產(chǎn)業(yè)之外，也用于顯示及LED等產(chǎn)業(yè)。其中，LCD產(chǎn)業(yè)2010年年平均使用量已超過870萬公升，在總使用量中所占比例最大。但LCD產(chǎn)業(yè)使用的光刻膠相較于半導體產(chǎn)業(yè)仍屬較低價產(chǎn)品，因此在供應半導體光刻膠的專業(yè)廠商，只有JSR與TOK供應LCD產(chǎn)業(yè)用的光刻膠產(chǎn)品，其他廠商則對供應LCD用光刻膠的意愿非常薄弱，而且因產(chǎn)業(yè)特性之故，新廠商參與的可能性也微乎其微，因此在未來仍會維持由3家廠商包括東進化學、AZEM、TOK寡占的市場格局。