光源供應(yīng)商看好EUV導入量產(chǎn)時程

時間：2011-07-06 05:15:00

關(guān)鍵字： EUV 晶片節(jié)點 ASML

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[導讀]盡管紫外光微影(EUV)的一再延遲，已讓人對于它的實際商用時程產(chǎn)生疑問，但 EUV 光源供應(yīng)商 Cymer 表示，隨著可提高晶圓產(chǎn)出的新一代光源技術(shù)日漸成熟，預估最快在14nm節(jié)點， EUV 將可望導入晶圓的量產(chǎn)中。Cymer迄今已

盡管紫外光微影(EUV)的一再延遲，已讓人對于它的實際商用時程產(chǎn)生疑問，但 EUV 光源供應(yīng)商 Cymer 表示，隨著可提高晶圓產(chǎn)出的新一代光源技術(shù)日漸成熟，預估最快在14nm節(jié)點， EUV 將可望導入晶圓的量產(chǎn)中。

Cymer迄今已出貨四套3100光源。其3100光源功率為100W，每小時吞吐量約60片晶圓。但該公司預計2012年可開始量產(chǎn)出貨3300光源，功率提高到250W，每小時吞吐量則提高到了100~120片晶圓?！斑@些產(chǎn)品規(guī)格是我們與ASML共同制定，”Cymer 公司微影應(yīng)用總監(jiān)Benjamin Lin說。

不久前，業(yè)界還認為光源功率的提升是實現(xiàn)EUV量產(chǎn)應(yīng)用的一大阻礙，但業(yè)界廠商的努力，看來可望加速達到此一目標。

EUV 目前仍是下一代微影術(shù)(NGL)的首選。晶片產(chǎn)業(yè)開始采用EUV的關(guān)鍵，是其吞吐量指標必須符合成本效益，其中光源又是驅(qū)動吞吐量的關(guān)鍵。而從目前的技術(shù)來看，“我們采用的雷射激發(fā)電漿型(LPP)光源技術(shù)，是實現(xiàn)功率調(diào)節(jié)的最佳方案，”Lin說。

與另一種放電激發(fā)電漿型(DPP)技術(shù)相比，“LPP擁有機臺較小、易于發(fā)展大功率、更高重復頻率，以及可透過雷射光源的提高來進行更好調(diào)節(jié)等特性，”他表示。

該公司表示，透過和晶片制造商的直接合作，將EUV技術(shù)導入晶圓廠試產(chǎn)線，將加快該技術(shù)的成熟腳步，為邁入更小制程節(jié)點的晶圓制造提供避免昂貴雙重曝光步驟的方案。 (鄧榮惠)