Toppan與IBM光罩技術(shù)合作將延伸至14奈米制程

時(shí)間：2011-01-19 05:34:00

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[導(dǎo)讀]日本光罩設(shè)備業(yè)者 Toppan Printing宣布已經(jīng)與IBM針對(duì)先進(jìn)的光罩(photomask)技術(shù)，延伸雙方的合作研發(fā)協(xié)議至 14奈米邏輯制程；兩家公司將在該制程節(jié)點(diǎn)延伸使用193奈米浸潤(rùn)式微影(immersion lithography)技術(shù)。據(jù)了解，

日本光罩設(shè)備業(yè)者 Toppan Printing宣布已經(jīng)與IBM針對(duì)先進(jìn)的光罩(photomask)技術(shù)，延伸雙方的合作研發(fā)協(xié)議至 14奈米邏輯制程；兩家公司將在該制程節(jié)點(diǎn)延伸使用193奈米浸潤(rùn)式微影(immersion lithography)技術(shù)。

據(jù)了解，IBM與 Toppan 的合作研發(fā)工作，將分別在IBM位于美國(guó)、以及 Toppan 的日本光罩廠進(jìn)行，時(shí)間由2011年1月至2012年。Toppan表示，支援包括超紫外光微影(EUV)在內(nèi)的新一代微影解決方案，是該公司的使命；因?yàn)镮BM在主流的ArF浸潤(rùn)式微影技術(shù)方面有成功的開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)，該技術(shù)也有潛力延伸至14奈米制程，雙方?jīng)Q定要針對(duì)此技術(shù)進(jìn)行合作研發(fā)。

Toppon補(bǔ)充，14奈米邏輯制程可能會(huì)是只采用光學(xué)微影技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)的最后一個(gè)節(jié)點(diǎn)，也可能會(huì)是轉(zhuǎn)進(jìn)EUV的開(kāi)端；在193奈米微影技術(shù)達(dá)到極限之后，未來(lái)的制程節(jié)點(diǎn)預(yù)期將會(huì)采用EUV微影。

IBM與Toppan的合作始于2005年的45奈米光罩制程研發(fā)，并一直陸續(xù)延伸到32奈米、28奈米、22奈米與20奈米節(jié)點(diǎn)；雙方所共同開(kāi)發(fā)的光罩技術(shù)，主要是支援IBM與其晶圓廠伙伴在美國(guó)所進(jìn)行的先進(jìn)晶圓制程研發(fā)。

編譯： Judith Cheng

(參考原文： IBM,Toppan extend litho for 14-nm，by Mark LaPedus)