Toppan與IBM光罩技術(shù)合作將延伸至14奈米制程
據(jù)了解,IBM與 Toppan 的合作研發(fā)工作,將分別在IBM位于美國、以及 Toppan 的日本光罩廠進(jìn)行,時間由2011年1月至2012年。Toppan表示,支援包括超紫外光微影(EUV)在內(nèi)的新一代微影解決方案,是該公司的使命;因為IBM在主流的ArF浸潤式微影技術(shù)方面有成功的開發(fā)經(jīng)驗,該技術(shù)也有潛力延伸至14奈米制程,雙方?jīng)Q定要針對此技術(shù)進(jìn)行合作研發(fā)。
Toppon補充,14奈米邏輯制程可能會是只采用光學(xué)微影技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)的最后一個節(jié)點,也可能會是轉(zhuǎn)進(jìn)EUV的開端;在193奈米微影技術(shù)達(dá)到極限之后,未來的制程節(jié)點預(yù)期將會采用EUV微影。
IBM與Toppan的合作始于2005年的45奈米光罩制程研發(fā),并一直陸續(xù)延伸到32奈米、28奈米、22奈米與20奈米節(jié)點;雙方所共同開發(fā)的光罩技術(shù),主要是支援IBM與其晶圓廠伙伴在美國所進(jìn)行的先進(jìn)晶圓制程研發(fā)。
編譯: Judith Cheng
(參考原文: IBM,Toppan extend litho for 14-nm,by Mark LaPedus)