臺積電公司發(fā)言人蔣尚義表示,20nm工藝的轉(zhuǎn)換將會帶來極高的柵密度以及優(yōu)于22nm工藝的性價比。新的20nm工藝將會采用增強型高K金屬柵極(HKMG)、應(yīng)變硅、低電阻銅超低K等連接技術(shù)。此外還包括有創(chuàng)新的patterning技術(shù)以及布局設(shè)計方法等。
預(yù)計20nm制造工藝技術(shù)將會在2012年下半年開始進行試產(chǎn)。
臺積電公司發(fā)言人蔣尚義表示,20nm工藝的轉(zhuǎn)換將會帶來極高的柵密度以及優(yōu)于22nm工藝的性價比。新的20nm工藝將會采用增強型高K金屬柵極(HKMG)、應(yīng)變硅、低電阻銅超低K等連接技術(shù)。此外還包括有創(chuàng)新的patterning技術(shù)以及布局設(shè)計方法等。
預(yù)計20nm制造工藝技術(shù)將會在2012年下半年開始進行試產(chǎn)。
要點: 有效應(yīng)對環(huán)境變化,經(jīng)營業(yè)績穩(wěn)中有升 落實提質(zhì)增效舉措,毛利潤率延續(xù)升勢 戰(zhàn)略布局成效顯著,戰(zhàn)新業(yè)務(wù)引領(lǐng)增長 以科技創(chuàng)新為引領(lǐng),提升企業(yè)核心競爭力 堅持高質(zhì)量發(fā)展策略,塑強核心競爭優(yōu)勢...
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