英特爾22納米READY 揭秘工藝背后的故事

時間：2010-03-20 20:52:00

關鍵字：英特爾 AD ASML 光刻機

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[導讀]在去年九月底的舊金山秋季IDF 2009論壇上，英特爾第一次向世人展示了22nm工藝晶圓，并宣布將在2011 年下半年發(fā)布相關產(chǎn)品。當然了，新型半導體工藝的實現(xiàn)并不是英特爾一家就能做到的，背后默默貢獻半導體設備的功

在去年九月底的舊金山秋季IDF 2009論壇上，英特爾第一次向世人展示了22nm工藝晶圓，并宣布將在2011 年下半年發(fā)布相關產(chǎn)品。

當然了，新型半導體工藝的實現(xiàn)并不是英特爾一家就能做到的，背后默默貢獻半導體設備的功臣卻往往不為人所知。 Arete Research LLC公司的分析師Jagadish Iyer在一份報告中指出，英特爾即將最終決定22nm光刻工藝設備的供應商，最終入圍的是荷蘭ASML Holding NV和日本尼康兩家。

其實在更早的45nm世代，ASML和尼康也曾雙雙成為英特爾的光刻設備供應商，但在32nm節(jié)點上英特爾首次應用了沉浸式光刻技術，只有尼康一家提供相關設備，如今ASML又要回來了。

此番ASML提供的光刻機為“NXT:1950i”，每臺平均售價4000萬歐元(5440萬美元)，負責40%的前道(FEOL)光刻層;尼康的光刻機則是“S620D”，報價3000萬美元，負責60%的后道(BEOL)光刻層。英特爾的 22nm工藝將有45個光刻層，其中55%需要進行沉浸式光刻。

在22nm工藝上，英特爾會繼續(xù)使用193nm沉浸式光刻，而最近披露的一份路線圖顯示它會一直延續(xù)到11nm工藝節(jié)點，這也就意味著極紫外(EUV)光刻（不少狂熱者可以以此推測人類半導體工業(yè)的制程極限了）又被推后了。

Jagadish Iyer估計到今年底的時候英特爾能每月生產(chǎn)大約5000塊22nm晶圓，2011-2012年間四座晶圓廠全力開工，每座每月可生產(chǎn)大約4.5萬塊 22nm晶圓，一個月合計18萬塊左右。

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