GLOBALFOUNDRIES和ARM發(fā)布28nm SoC技術(shù) 2010年下半年即可使用

時(shí)間：2010-03-01 06:26:00

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[導(dǎo)讀]美國(guó)GLOBALFOUNDRIES公司和英國(guó)ARM公司共同開(kāi)發(fā)了移動(dòng)設(shè)備用28nm級(jí)的SoC技術(shù)，并在正于西班牙巴塞羅那市舉行的 “Mobile World Congress 2010（MWC 2010）上發(fā)布。該技術(shù)基于ARM的“Cortex-A9處理器”和物理層IP內(nèi)核

美國(guó)GLOBALFOUNDRIES公司和英國(guó)ARM公司共同開(kāi)發(fā)了移動(dòng)設(shè)備用28nm級(jí)的SoC技術(shù)，并在正于西班牙巴塞羅那市舉行的 “Mobile World Congress 2010（MWC 2010）上發(fā)布。該技術(shù)基于ARM的“Cortex-A9處理器”和物理層IP內(nèi)核，以及GLOBALFOUNDRIES的28nm工藝技術(shù)。 GLOBALFOUNDRIES表示，這一28nm工藝2010年下半年開(kāi)始就可以使用。

兩公司聯(lián)合開(kāi)發(fā)的28nm SoC技術(shù)主要面向智能手機(jī)和智能本（Smar-Book）等高性能便攜終端所配備的LSI。與45/40nm工藝相比，同等功耗下運(yùn)行速度可提高 40％，同等運(yùn)行速度條件下功耗可減少30％。GLOBALFOUNDRIES準(zhǔn)備有超低耗電（SLP：super low power）版和高速版（HP：high performance）版兩種28nm工藝。均采用高介電率（high-k）柵極絕緣膜/金屬柵極技術(shù)，沿用了原有的稱為Gate First方式的的柵層疊（Gate Stack）形成工序。

ARM在GLOBALFOUNDRIES之外，還在與美國(guó)IBM公司的工藝開(kāi)發(fā)聯(lián)盟（the IBM Joint Development Alliance）的成員企業(yè)聯(lián)合開(kāi)發(fā)使用高介電/金屬柵極技術(shù)的工藝和物理層IP內(nèi)核。ARM預(yù)定在MWC 2010上首次披露集成有與上述成員企業(yè)聯(lián)合開(kāi)發(fā)的28nm SoC晶圓。