Gigaphoton量產(chǎn)型 LPP式EUV光源明年年初將上市銷售

光刻機(jī)光源廠商Gigaphoton公司近日宣稱其研發(fā)的EUV用LPP光源的殘骸消除技術(shù)可以去掉工質(zhì)等離子化時(shí)產(chǎn)生的92%有害殘骸，其研發(fā)的LPP光源使用了電磁場技術(shù)來降低殘骸的數(shù)量，這樣一來，這款光源產(chǎn)品將很快投入量產(chǎn)，并于明年年初正式上市（按照Gigaphoton此前公布的Roadmap，這款機(jī)型代號(hào)應(yīng)該是GL200E）。
Gigaphoton公司的總裁Yuji Watanabe博士稱：“這項(xiàng)新技術(shù)的應(yīng)用，給LPP光源的量產(chǎn)化帶來了希望，我們將在我們的EUV光源中應(yīng)用這種獨(dú)特的技術(shù)，以確保我們的光源產(chǎn)品能夠穩(wěn)定工作并保持較低的成本水平。我認(rèn)為這種新技術(shù)的推出將進(jìn)一步促進(jìn)設(shè)備廠商盡早啟用EUV光刻設(shè)備。為了滿足我們客戶要在明年年初拿到正式產(chǎn)品的要求，Gigaphoton專門為EUV光源初期量產(chǎn)而設(shè)立的工廠已經(jīng)開始啟動(dòng)運(yùn)作。這也標(biāo)志著我們公司與EUV有關(guān)業(yè)務(wù)已經(jīng)正式走上軌道。”
據(jù)Gigaphoton介紹，LPP光源使用CO2激光束照射微小的錫珠工質(zhì)以產(chǎn)生發(fā)光等離子體，不過錫珠被激光照射之后的殘骸會(huì)吸附在LPP光源的匯聚鏡片表面，損傷鏡片表面的多層薄膜結(jié)構(gòu)，該公司還宣稱要想推出量產(chǎn)型EUV用LPP光源，就必須使用其研發(fā)的磁場技術(shù)。
Gigaphoton采用的殘骸消除技術(shù)采用固態(tài)激光源來產(chǎn)生預(yù)脈沖（所謂預(yù)脈沖，就是指主脈沖產(chǎn)生前振幅較小的脈沖），配合CO2激光源的主脈沖，以減少激光照射錫珠后產(chǎn)生的錫碎屑和中性錫原子數(shù)量，保證錫珠中的錫離子數(shù)量最大化，然后再使用電磁場將這些錫離子導(dǎo)向錫離子收集器，再將收集器上收集的錫排出，這樣便能最大限度降低鏡片上的錫殘骸淀積，保護(hù)鏡片。
Gigaphoton透露，在該光源的驗(yàn)證性試驗(yàn)中，直徑僅20um的錫珠工質(zhì)先后接受作為預(yù)脈沖源的固態(tài)激光源和作為主脈沖源的CO2激光的照射加熱，這樣就能完全杜絕被加熱后的錫珠產(chǎn)生碎片殘骸的現(xiàn)象。Gigaphoton宣稱采用這種設(shè)計(jì)的LPP光源中錫珠的93%部分均會(huì)被離子化，此后的電磁場作用則可以將這些錫珠產(chǎn)生的99%比例的錫離子導(dǎo)向到錫收集器中。
不過，除去被離子化的錫之外，剩余的7%未被激光束加熱離子化的錫原子則會(huì)緩慢地沉積在會(huì)聚鏡片上，但Gigaphoton可以定期使用蝕刻性的氣體來清除這些淀積的錫原子。這樣就可以將光源鏡片表面的多層膜結(jié)構(gòu)所受到的損壞降低到最低。
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