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[導讀]就像是“膠卷”已經幾乎消失在大眾視野里一樣,一種新研發(fā)的量子薄膜(quantum film)可能會讓數碼相機里的CMOS影像傳感器位置不保。 該種薄膜是以類似傳統底片的材料所制成,即一種具備嵌入粒子的聚合物;不過不同于

就像是“膠卷”已經幾乎消失在大眾視野里一樣,一種新研發(fā)的量子薄膜(quantum film)可能會讓數碼相機里的CMOS影像傳感器位置不保。

該種薄膜是以類似傳統底片的材料所制成,即一種具備嵌入粒子的聚合物;不過不同于底片所使用的銀顆粒,其所嵌入的粒子是量子點(quantum dots)。據發(fā)明該薄膜的公司InVisage表示,量子薄膜能反映分辨率更高的影像,敏感度是超高分辨率影像傳感器的四倍,而且制造成本還便宜得多。

“很多創(chuàng)新都號稱是革命性的,但實際上只是漸進式變化(incremental changes);不過InVisage的量子薄膜真的是革命性的發(fā)明。”市場研究機構Strategies Unlimited的光子與化合物半導體業(yè)務總監(jiān)Tom Hausken表示:“數年來產業(yè)界一直在尋找量子點可運用的地方,InVisage找到了一個非常適合用量子點作為解決方案的題目?!?/FONT>

另一家市場研究機構Semico Research的策略性技術副總裁Morry Marshall則表示,InVisage可望催生新一代的影像傳感器。“該種薄膜能收集更多光線,因此能為低端手機相機制作較小型的影像傳感器,或是為高端數碼相機制作分辨率更高的影像傳感器;”他表示,該公司跨出了很大的一步,未來市場也很龐大,不過小公司要闖蕩大市場,還需要克服很多困難。

該種新型半導體材料是由現任InVisage技術長的多倫多大學(Univeristy of Toronto)教授Ted Sargent所發(fā)明,他優(yōu)化了一種方法將硫化鉛(lead-sulfide)納米粒子懸浮在聚合物數組中,以形成一系列新的半導體聚合物;而InVisage花費過去三年的時間將該材料與標準CMOS制程進行整合。

現在該公司能將量子薄膜涂布在具備電極數組(electrode array)的低成本晶圓片上,就可支持超高密度/高像素數字影像,卻不需要使用制作大多數傳統數碼相機傳感器所需的、昂貴的CMOS光電偵測器(photodetectors)。

“我們的量子薄膜可取代用以擷取影像的硅芯片,不過實際上我們所創(chuàng)造出的是一種半導體新材料;”InVisage總裁暨執(zhí)行長Jess Lee表示:“我們的量子薄膜甚至看起來像照相底片,是一種我們將之沉積在影像芯片最頂層的、不透光的黑色材料。”

不同于傳統半導體組件擁有固定的能隙(bandgap),InVisage的量子薄膜之能隙能藉由改變所嵌入的量子點尺寸來做調整;該薄膜也能在室溫下進行涂布,不需要生產傳統傳感器必備的昂貴高溫制程。

Lee表示,該公司的量子點薄膜能涂布在各種表面上,其第一代產品是以硅晶圓片為底,是一種可以取代CMOS影像傳感器的超低價影像傳感器。

在傳統CMOS影像傳感器,光線需要滲入數微米(4~5micron)的金屬才能達到硅晶圓上的光偵測器;不過InVisag的量子薄膜(厚度約僅500納米)是在芯片的最頂層,因此能夠百分之百曝露在入射光線中。

雖然OmniVision曾經以背面照度(BSI)技術改善CMOS影像傳感器的光線擷取程序,但Lee表示(他曾擔任OmniVision的主流業(yè)務副總裁),BSI僅能轉換八成的入射光線,主要是因為像素與像素之間得加入溝槽來防止傳感器的串擾。而另一方面,量子薄膜則是能在芯片頂層擷取100%的光線。

InVisage聲稱,可利用該種新材料以低價的臺積電1.1微米8吋晶圓CMOS制程,生產敏感度是現有傳感器四倍(或者是尺寸僅四分之一、但敏感度相同)的新一代傳感器;而目前的 CMOS影像芯片供貨商大多是采用昂貴的65納米節(jié)點12吋晶圓制程,其表現還較遜。

未來InVisage也打算切入其他專業(yè)應用領域,例如全黑夜視鏡、低價太陽能電池,甚至噴霧式顯示器(spray-on display )等。

 

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