日本半導(dǎo)體業(yè)上演合縱連橫
東芝公司發(fā)布新聞公報(bào)稱,三方將共同開發(fā)28納米工藝CMOS處理技術(shù),該技術(shù)可用在高速傳輸大容量數(shù)據(jù)的下一代通信機(jī)器上。這項(xiàng)開發(fā)將在IBM位于美國紐約州的半導(dǎo)體工廠進(jìn)行。
東芝和NEC電子分別于2007年12月和2008年9月加入了以IBM為核心的半導(dǎo)體開發(fā)陣營。兩家日本電子巨頭也互相開展合作,把從IBM陣營獲得的技術(shù)成果應(yīng)用在量產(chǎn)的產(chǎn)品中。
業(yè)界普遍認(rèn)為,半導(dǎo)體開發(fā)需要巨額投資,東芝和NEC電子強(qiáng)化與IBM的合作能夠減輕資金負(fù)擔(dān),并提高開發(fā)效率。