哪些半導體產(chǎn)業(yè)的技術、設備、方法等可以申請專利？

首先，分析集成電路本身與專利保護的關系。原則上講，只要滿足專利法的有關規(guī)定，就可以受到專利法的保護。但是，由于集成電路產(chǎn)品自身的特點，使其絕大多數(shù)難以滿足專利制度所提出的要求。問題的癥結在于創(chuàng)造性。依照專利法的要求，具備創(chuàng)造性的產(chǎn)品必須在技術上具有突出的實質(zhì)性特點和顯著的進步。也就是說，對于本專業(yè)普通技術人員而言，該集成電路在設計上必須不是顯而易見的。這一要求導致大多數(shù)集成電路品種無法得到專利法的保護。

⑴集成電路產(chǎn)業(yè)中用來衡量技術發(fā)展水平的標準——集成度，與專利法中的創(chuàng)造性標準間的關系并不協(xié)調(diào)，集成度高的集成電路產(chǎn)品未必就一定具備專利法上的創(chuàng)造性。

⑵在集成電路設計中，尤其是設計一些規(guī)模較大的電路時，設計人常常采用一些現(xiàn)成的單元電路進行組合。這類單元電路組合的結果，在通常情況下根據(jù)已有知識可以事先預測，不會產(chǎn)生意想不到的效果。而組合發(fā)明要通過創(chuàng)造性審查，必須取得對該發(fā)明創(chuàng)造所屬技術領域的普通技術人員來說是預先難以想到的效果。這對大多數(shù)集成電路產(chǎn)品來講，是難以達到的。

以上兩種情況在集成電路設計中是十分常見的。這使眾多集成電路因為創(chuàng)造性達不到要求而不能受到專利法的保護。尤其是第一種情況，可能會導致最先進、最尖端的集成電路產(chǎn)品得不到法律保護。當然，這絕不意味著所有的集成電路發(fā)明創(chuàng)造都不受專利法保護，那些確實具備創(chuàng)造性的集成電路產(chǎn)品仍可申請專利以尋求保護。應當承認，專利法作為保護技術方案的傳統(tǒng)法律，有很強的保護的力度。如能獲得專利權，仍為保護集成電路產(chǎn)品的上佳選擇。

第二，集成電路的開發(fā)和制造過程一般包括：開發(fā)EDA（電子設計自動化）工具，利用EDA進行集成電路設計，根據(jù)設計結果在硅圓片上加工芯片，對加工完畢的芯片進行封裝和測試，最后應用到整機系統(tǒng)上與最終消費者見面。

盡管大多數(shù)集成電路產(chǎn)品本身獲得專利存在著一定的困難，但是可以分析研究集成電路開發(fā)和制造過程中所用到的技術、設備和方法，只要相比較現(xiàn)有技術有實質(zhì)性進步、滿足三性要求，就可以獲取專利保護。下面列舉一些已經(jīng)公布的專利申請：

⑴集成電路設計。包括計算機輔助設計的設計工具，以及集成電路設計的設備和方法。

如申請?zhí)枮?00410007526.9的“一種用于集成電路設計的靜止圖像壓縮碼率控制方法”的發(fā)明專利；申請?zhí)枮?00410030242.1的“系統(tǒng)大規(guī)模集成電路設計支持設備及方法”的發(fā)明專利；申請?zhí)枮?00410004624.7的“集成電路設計整合方法及其應用的組件、交易方法與產(chǎn)品”的發(fā)明專利。

⑵芯片制造技術與設備。芯片制造技術包括超精細加工技術、薄膜生長和控制技術、高密度組裝技術、過程檢測和過程控制技術等。其中最關鍵的是薄膜生成技術和光刻技術。

如申請?zhí)枮?3105471.0的“雙面對版曝光機”的發(fā)明專利；申請?zhí)枮?2101628.3的“生物芯片制造裝置及方法”的發(fā)明專利；申請?zhí)枮?3156894.7的“記憶芯片制造方法及其構造”的發(fā)明專利。

⑶封裝與測試技術與設備。

如申請?zhí)枮?3158535.3的“集成電路封裝測試設備”發(fā)明專利；申請?zhí)枮?00410091564.7的“集成電路晶片封裝及其封裝方法”的發(fā)明專利；申請?zhí)枮?0134275.4的“集成電路測試裝置”的發(fā)明專利。

⑷半導體材料和設備以及制造方法。

如申請?zhí)枮?3803554.5的“有機半導體結構物、其制造方法和有機半導體裝置”的發(fā)明專利；申請?zhí)枮?1820693.X的“半導體材料的激光加工”的發(fā)明專利。