美國再次放寬對華高技術產(chǎn)品出口 65nm以下刻蝕設備不再受限

[導讀]在SEMI及會員公司的共同努力下，經(jīng)過9個月的等待，美國聯(lián)邦政府正式實施放寬刻蝕設備的出口條件，原來180nm的技術審核指標被正式放寬到了65nma。