臺積電28nm制程有望今年Q4小批量試產(chǎn)
臺積電公司領(lǐng)導(dǎo)林本堅近日表示,公司規(guī)劃的28納米制程最快可望在今年第4季度小批量生產(chǎn),并預(yù)估產(chǎn)量將在明年擴(kuò)大。
林本堅表示,28納米制程采用多重曝影(multi patterning)的浸潤式(immersion)微影技術(shù),并且公司正在進(jìn)行20納米技術(shù)的研發(fā),未來14納米將嘗試導(dǎo)入極紫外光(EUV)或多重電子束 (MEB)等新技術(shù),臺積電目前已加入Sematech,針對20納米以下半導(dǎo)體制程的相關(guān)技術(shù)進(jìn)行合作研發(fā)。
事實上,臺積電董事長張忠謀早先就曾透露,臺積電正緊密觀察移動終端的市場變化,如今智能手機(jī)、平板電腦等產(chǎn)品逐漸向輕薄、低耗能發(fā)展已是明顯趨勢,公司在進(jìn)軍市場與持續(xù)穩(wěn)健成長上皆需要仰仗28納米制程。