Cadence談32/28/20nm制程現(xiàn)狀

Cadence指出，在32/28納米制程上還有很大的成長(zhǎng)空間，隨著市場(chǎng)對(duì)于高階制程需求若渴，2012年轉(zhuǎn)入28納米制程腳步會(huì)逐漸加快，而2013年更將是20納米制程生產(chǎn)的起飛元年。

綜觀全球市場(chǎng)，對(duì)這些晶片產(chǎn)品的需求分布非常平均，32/28納米制程的需求并不完全集中在歐美或日本這些傳統(tǒng)科技大國(guó)，可以觀察到如南韓、大陸，甚至美國(guó)公司聚集地的印度等亞洲地區(qū)，對(duì)于高階制程的需求勁揚(yáng)。臺(tái)灣的IC設(shè)計(jì)公司安霸(Ambarella)即是一例，2011年安霸使用Samsung的32納米制程，量產(chǎn)其數(shù)位相機(jī)影像晶片，以資本額較少的新公司而言，跨入高階制程需要承擔(dān)更大的風(fēng)險(xiǎn)，此舉足見安霸的企圖心。

在追求高效能、低功耗、高集積度的設(shè)計(jì)彈性等需求逐步浮現(xiàn)的狀況底下，28納米制程絕對(duì)會(huì)成為客戶的選擇，只不過由于28納米漏電流(leakage power)的問題尚未改善，有許多公司可能因?yàn)槌杀炯傲悸实目剂?，目前還在觀望，尤以無(wú)晶圓廠的IC 設(shè)計(jì)公司承擔(dān)較大的價(jià)格壓力，不見得會(huì)將所有產(chǎn)品上都會(huì)采用高階制程。不過目前看來，繪圖、處理器、記憶體、Asic、多媒體處理器等各式各樣的產(chǎn)品都已經(jīng)有轉(zhuǎn)入28納米的跡象。

20納米部分，Cadence表示目前EDA廠商都在發(fā)展相關(guān)技術(shù)，但實(shí)際上真正有進(jìn)展的廠商并不多 主要瓶頸在于20納米制程上單位面積的電晶體復(fù)雜度大增，有很多有別于以往的新規(guī)必須去適應(yīng)。

其次，隨著電路的間距縮短挑戰(zhàn)了光學(xué)定義的極限，技術(shù)上工程師發(fā)展出Double Patterning(DPT)的方式，但這在技術(shù)發(fā)展和成本上都造成很大的負(fù)擔(dān)，技術(shù)上的挑戰(zhàn)是要如何避免兩次作之間產(chǎn)生的誤差；成本上的挑戰(zhàn)則來自于要如何在做兩次光學(xué)定義時(shí)，還可控制成本在可接受的范圍內(nèi)。