引領(lǐng)技術(shù)開發(fā)的少數(shù)芯片制造商認(rèn)定，極紫外光(EUV)微影技術(shù)將在明年使得半導(dǎo)體元件的電晶體密度更進一步向物理極限推進，但才剛失去全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)龍頭寶座的英特爾(Intel)，似乎放棄了繼續(xù)努力在采用EUV的腳步上領(lǐng)先;該公司在1990年代末期曾是第一批開始發(fā)展EUV的IC廠商。
曾是電子工程師的市場研究機構(gòu)Bernstein分析師Mark Li表示，英特爾不會在短時間內(nèi)導(dǎo)入EUV，該公司仍在克服量產(chǎn)10納米制程的困難，因此其7納米制程還得上好幾年，何時會用上EUV更是個大問題。
在此同時，三星(Samsung)與臺積電(TSMC)正在小心翼翼推進EUV技術(shù);這兩家公司都在開發(fā)預(yù)計2019年導(dǎo)入量產(chǎn)的EUV技術(shù)，遙遙領(lǐng)先其他半導(dǎo)體業(yè)者。而英特爾看來已經(jīng)成為落后兩家同業(yè)有一段距離的第三名;有另一家市場研究機構(gòu)Susquehanna的分析師Mehdi Hosseini就表示：“英特爾已然失去了制造技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)地位。”
晶圓代工業(yè)者Globalfoundries去年曾表示將于2019年將EUV工具導(dǎo)入生產(chǎn)流程。Bernstein的Li指出，三星將比臺積電稍后推出7納米制程，但會率先采用EUV;臺積電則會在7納米的增強版本7nm+才會在少數(shù)幾層光罩采用EUV，而擁有可選擇采用EUV與不采用EUV版本制程的彈性，會成為臺積電的優(yōu)勢。
Hosseini則指出，三星一直規(guī)劃在7納米節(jié)點導(dǎo)入最少8~10層EUV，而臺積電則是要在7nm+制程才導(dǎo)入少數(shù)幾層EUV。英特爾或許是想等到EUV技術(shù)更成熟──該公司去年接受EE Times采訪時表示，將盡快在EUV技術(shù)準(zhǔn)備就緒、達(dá)到成本效益時導(dǎo)入量產(chǎn);Bernstein的預(yù)測是該時間點恐怕要到2021年底。
Susquehanna的Hosseini補充指出：“現(xiàn)在看來，三星的積極計劃出現(xiàn)反效果，因為潛在客戶不太滿意該公司的7納米制程配方。”Susquehanna曾預(yù)測Globalfoundries在7納米節(jié)點恐怕很難獲得客戶青睞，而隨后Globalfoundries果然宣布將停止7納米制程研發(fā)，將裁員5%并將ASIC團隊獨立為全資子公司，以便尋找其他擁有7納米技術(shù)的晶圓代工伙伴。
但Bernstein的Li表示，芯片產(chǎn)業(yè)對接受EUV微影技術(shù)的謹(jǐn)慎態(tài)度，不會對臺積電與蘋果(Apple)之間的生意產(chǎn)生影響：“雖然Apple在明年應(yīng)該不會采用EUV，不過臺積電應(yīng)該還是會保有代工Apple處理器的獨家生意。我們不認(rèn)為這會對臺積電的EUV規(guī)劃有負(fù)面影響。”
他指出，臺積電會在2019下半年導(dǎo)入EUV量產(chǎn)，而包括手機、GPU以及加密貨幣挖礦業(yè)者，都對7nm+制程有興趣。
Susquehanna的Hosseini則表示，現(xiàn)在臺積電的7納米技術(shù)領(lǐng)先其他競爭對手，而這也是該公司能繼續(xù)取得Apple與其他大客戶更多生意的主要原因之一：“臺積電顯然會因為較佳的7納米制程技術(shù)性能、較低的功耗以及更高密度，贏得大多數(shù)先進制程設(shè)計的訂單。”
Hosseini接受EE Times訪問時指出：“臺積電的7納米制程在第四季估計將貢獻(xiàn)該公司營收的20%以上;該制程有超過50款產(chǎn)品投片，包括應(yīng)用處理器(AP)、GPU、伺服器CPU、網(wǎng)路處理器與FPGA等不同應(yīng)用;”技術(shù)的領(lǐng)先應(yīng)該有助于臺積電在未來多元化其客戶基礎(chǔ)。
市場研究機構(gòu)Arete分析師Brett Simpson表示：“隨著新成長動力逐漸發(fā)酵，臺積電將越來越從非智慧型手機市場獲益，包括5G基地臺、云端運算、自動駕駛車輛以及人工智慧(AI)等，雖然都剛崛起，但長期看來都是重要的、會需要先進制程之高性能運算商機。”
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