ASML對EUV光刻機前景表示樂觀，最先進光刻機很快將入華

中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機霸主ASML(阿斯麥)中國區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關心的話題。

盡管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進工藝的研發(fā)，但ASML依然對EUV光刻機的前景表示樂觀。

此前有消息指出，中芯國際(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機，預計明年交付，用于7nm節(jié)點。

同時，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機方面，沈波稱，今年下半年ASML已開始出貨家族最先進的NXT:2000i，很快會在中國市場上也見到。

另外，媒體早先有報道稱，長江存儲、上海華虹半導體分別向ASML訂購了193納米浸沒式光刻機和193納米雙工件臺沉浸式光刻機NXT:1980Di，分別用于存儲芯片制造、晶圓代工。

據(jù)悉，ASML今年第一季度和第二季度的財報顯示，大陸市場的銷售收入占比達到了20%左右，已與美國持平，且超過了臺灣地區(qū)。

ASML今年的EUV光刻機產能將達到20臺，明后兩年將逐步提升到40臺。