日本啟動(dòng)EUV光源開(kāi)發(fā)項(xiàng)目

據(jù)半導(dǎo)體國(guó)際網(wǎng)站報(bào)道，日前一個(gè)關(guān)于極紫外（EUV）光刻光源開(kāi)發(fā)的新聯(lián)盟在日本啟動(dòng)，這是繼EUV曝光技術(shù)開(kāi)發(fā)完成后，日本極紫外光刻系統(tǒng)開(kāi)發(fā)協(xié)會(huì)(ExtremeUltravioletLithographySystemDevelopmentAssociation，EUVA，日本川崎)的又一動(dòng)作，該項(xiàng)目是在2008年3月達(dá)成決議的。5月，該協(xié)會(huì)舉行了最后的討論會(huì)，報(bào)告EUV光源開(kāi)發(fā)成果。報(bào)告結(jié)果主要展示了采用激光等離子體技術(shù)（LPP）的中間聚焦點(diǎn)為60W的EUV光源，和采用放電等離子體技術(shù)（DPP）的中間聚焦點(diǎn)為20W的EUV光源。之前在3月份結(jié)束的這個(gè)項(xiàng)目獲得了日本經(jīng)濟(jì)貿(mào)易產(chǎn)業(yè)省（MinistryofEconomy,TradeandIndustry，METI)的支持，為期5年，總金額達(dá)到1.25億美元。

然而，EUV光源開(kāi)發(fā)的成果尚不能商業(yè)化，光源靶極設(shè)定值超過(guò)了115W，可滿足300mm晶圓100wph的量產(chǎn)需求。這個(gè)新聯(lián)盟包括EUV光源開(kāi)發(fā)商UsioInc.(Tokyo)和KomatsuLtd.(Tokyo)，EUV設(shè)備制造商N(yùn)ikon和Canon，并與METI的下屬機(jī)構(gòu)新能源和技術(shù)開(kāi)發(fā)組織（NewEnergyandIndustrialTechnologyDevelopmentOrganization，NEDO)簽訂了為期2年的合同。合同幫助新聯(lián)盟使用之前EUVA項(xiàng)目的工具設(shè)施。

在開(kāi)發(fā)EUV光源上最大的挑戰(zhàn)在于，如何在等離子氣氛中為濺射墻控制碎片、灰塵或污染物。如果沒(méi)有碎片控制，光源會(huì)很快惡化。阻止污染物進(jìn)入透鏡和光掩膜，對(duì)EUV光源的正常工作也是必不可少的。

在向NEDO提交的一項(xiàng)申請(qǐng)中，EUVA提出了新的關(guān)于EUV光源清洗技術(shù)的建議，它包括32nm節(jié)點(diǎn)EUV光源的掩膜和透鏡污染評(píng)估技術(shù)，以及聚焦束系統(tǒng)的清洗技術(shù)。新建議預(yù)計(jì)于5月底被接納。EUVA希望今年能啟動(dòng)一個(gè)為期3年的新合同計(jì)劃。

Nikon、Canon和ASML公司目前都在為R&D研發(fā)中心提供alpha樣機(jī)，但對(duì)于32nm及更高節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)來(lái)說(shuō)，EUV光源的能量仍是個(gè)問(wèn)題。更高能量的EUV光源仍在期待中。

編輯： 荒原