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[導讀]在2010年12月10日于北京召開的“中國·北京2010年國際平板顯示產業(yè)高峰論壇(FPD International CHINA 2010 / Summit and Seminar)”的技術分科會上,除了探討有機EL、氧化物半導體、3D顯示器等熱門技術的“高端技術

在2010年12月10日于北京召開的“中國·北京2010年國際平板顯示產業(yè)高峰論壇(FPD International CHINA 2010 / Summit and Seminar)”的技術分科會上,除了探討有機EL、氧化物半導體、3D顯示器等熱門技術的“高端技術講座”外,同時還舉辦了傳授面板部件材料與制造工藝最新技術的“技術講座”。雖然所講為基礎性內容,但會場內依然涌進了200多位聽眾。年輕的技術人員為了不錯過講師所說的每一個字,一邊聽講一邊認真做筆記的身影給人留下深刻印象。

圖:中國年輕FPD技術人員坐滿講堂(點擊放大)


發(fā)表FPD產業(yè)長期發(fā)展藍圖,“成長仍將持續(xù)”

在日本特邀講師的主題演講中,從事FPD業(yè)務近20年的兩位講師介紹了FPD產業(yè)未來的長期發(fā)展藍圖。演講人是在日本IBM長年從事液晶面板業(yè)務的 Tech and Biz總經理北原洋明和在AKT長年從事液晶制造裝置業(yè)務的Advanced Data Research(ADR)總經理高多清作。兩人在演講中都明確認為“FPD產業(yè)今后仍將持續(xù)成長”。

在展示到2030年為止的FPD產業(yè)發(fā)展藍圖時,北原表示今后“怎樣保證綠色”將成為重點。因此,光學薄膜和背照燈等影響FPD光利用率的面板部件材料的開發(fā)將變得尤為重要。北原介紹說:“三星將面板透射率的目標從4~6%提高到8%、夏普采用光配向技術都是綠色日趨重要的表現”。

高多的主題演講題為“前途依然光明的液晶產業(yè)”,他為中國聽眾送上了鼓勵的話語。演講內容是高多根據近20年經驗,對FPD產業(yè)今后20年所做展望。高多預測:“現在32英寸電視的平均價格是400美元,但根據過去的經驗推測,到7年后的2017年,面積是其4倍的64英寸電視的平均價格將降至400 美元,FPD電視市場按面積計算將增加到現在的4倍”?!?025年將再增加4倍,到2035年還將再增加4倍”(高多)。高多鏗鏘有力地表示:“生產線的換代雖然必要,但只要努力削減成本,FPD市場就會無限拓展”。

中日韓專家講解面板部件材料最新技術

對于面板部件材料和制造工藝的各項技術,來自日本、韓國、中國的專家在峰會上分別進行了講解。

面板部件材料方面,北京科技大學教授楊槐使用手性向列相(chiral nematic phase)液晶材料的最新研發(fā)發(fā)表了主題演講。介紹了備受期待的新一代液晶技術——藍相(blue phase)穩(wěn)定化技術、反射型電子紙的顯示元件、提升背照燈亮度的反射型偏光膜應用等。從中可以讓人感受到中國正在穩(wěn)步地推進液晶材料的基礎性研究。

光刻膠廠商東進世美肯(韓國Dongjin Semichem)的常務理事金柄郁(Byun Uk Kim)就2015~2020年的印刷電子、柔性電子技術發(fā)表了演講。并且就目前使用玻璃基板的光刻技術指出,使掩模數量從4張減少到3張的技術、提高開口率所需的有機絕緣膜、Cu布線制程用藥液、無掩模技術的開發(fā)等將趨于重要。

經營液晶面板配向膜和彩色濾光片彩色光阻(color resist)等材料的JSR顯示器研究所所長梶田徹就新一代FPD材料發(fā)表了演講。梶田表示,在FPD材料的研究開發(fā)中,為了在有助于降低面板成本的同時獲得規(guī)模效益,實現新一代高附加值面板,開展技術革新是必經之路。梶田以“綠色與環(huán)境”為關鍵詞,按照配向膜、彩色光阻、用于提高開口率的有機膜、光阻間隙(Photo Spacer)的順序,對各種材料的開發(fā)狀況進行了講解。

在中國從事液晶面板工廠設計的世源科技工程的總經理杜曉陽(Xiaoyang Du)就怎樣在短期內建成大規(guī)模工廠給出了廣泛的建議。杜曉陽講解了中國的特殊情況,表示中國與他國相比規(guī)定嚴格,取得各項批準需要耗費大量時間,對構筑信息交流平臺,從設計階段開始推進標準化的重要性等方面進行了介紹。據悉該公司包攬了中國全部TFT液晶面板工廠的設計。

住友化學集團住化電子材料科技(無錫)的技術顧問林成年就該公司在中國的FPD材料業(yè)務發(fā)表了演講。該公司目前在上海工廠和無錫工廠生產偏光板,在合肥工廠生產藥液。今后,該公司計劃配合京東方光電科技的第8.5代工廠的開工,于2011年第三季度成立北京工廠,開始供應偏光板。此外,新業(yè)務方面,林成年表示該公司還將著手導光板、藥液、鋁靶等業(yè)務。

介紹低溫多晶體硅再結晶,TFT曝光和蝕刻的最新技術

制造工藝方面,首先,首爾大學教授朱承基(Seung-Ki Joo)就降低低溫多晶體硅TFT基板成本所需的MILC(metal-induced lateral crystallization)技術的最新研發(fā)發(fā)表了主題演講。朱承基表示,作為備受期待的新一代FPD,在有機EL面板的發(fā)展中,采用MILC技術的高性能、低成本低溫多晶體硅TFT基板“非常重要”。朱承基認為,MILC技術比現在主流的準分子激光退火(excimer laser anneal)技術可靠性高,而且工藝簡單,成本低,成品率高。并且便于在底柵TFT的生產中使用。

接著,佳能液晶機器設計中心所長滝澤毅結合影像資料,介紹了該公司自主開發(fā)的支持大型玻璃基板的鏡像投影方式曝光裝置。佳能現在擁有支持第5代、第6 代、第8代基板的曝光裝置。在中國市場上,2010年的市場份額高達88%。滝澤還介紹了開發(fā)支持第10代和第11代的裝置的基本方針。在光學投影系統(tǒng)的開發(fā)中,佳能將分別推動光學部件的大型化、加工設備的全新開發(fā)、光掩模大型化的應對、曝光光源的大型化等。在裝置的開發(fā)中,將進行一步發(fā)展佳能的“智能平臺”方式。為實現輕量化曝光臺將采用新材料。

最后,東電電子FPD業(yè)務本部FPD部門副總經理松浦次彥就干法蝕刻設備的涂膠顯影設備的技術動向發(fā)表了演講。關于干法蝕刻,松浦首先介紹了支持大型基板中面臨的課題。松浦指出,最大的課題在于兼顧等離子的均勻性和蝕刻處理速度。而且,第10代使用的設備不同于第8代之前,需要在客戶方進行組裝。因此,未來向中國提供支持第10代的設備時,中方需要準備組裝的基礎設施。其他開發(fā)課題方面,松浦舉出了對于備受期待的后非晶體Si——氧化物半導體 IGZO(In-Ga-Zn-O)。涂膠顯影設備方面,松浦對確保60秒以下的間歇時間、確保4張掩模制造中光刻膠膜厚的均勻性、對2μm線寬的支持等方面進行了講解。重點講解了把玻璃基板的氣浮和搬運技術應用于涂膠中的效果。最后,松浦介紹了在昆山市設立的制造設備生產基地“東電光電半導體設備(昆山)有限公司”,表示“將以此為起點推進合作”。(記者:田中 直樹) [!--empirenews.page--]



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