以納米壓印法開發(fā)全新光學組件

日本理化學研究所以納米壓印法 (Nanoimprint Lithography, NIL)開發(fā)出可在高曲折率玻璃上形成細微構(gòu)造的全新光學組件。該機構(gòu)以高度1130納米的L/S(Line & Space)圖形轉(zhuǎn)印，成功制造出波長750納米、位相差0.25的1/4波長板 (Wave plates)，

具有可低價、大量生產(chǎn)等特點。

玻璃具有高透明性、曲折率、耐熱性、耐旋光性等特征，廣泛地應(yīng)用在面板、鏡頭、光纖等領(lǐng)域方面；不過一般而言，以納米壓印法設(shè)計光學構(gòu)造，往往需要500~600度的高溫環(huán)境，因此不利于大量加工生產(chǎn)。

研究團隊使用玻璃原料―多晶硅(polysilicon)在低溫低壓下形成細微構(gòu)造，然后再經(jīng)過照射紫外線以及離膜后的熱處理，多晶硅便成為了玻璃，在波長400~800納米下的透過率證實可達到70%以上的水平。

新產(chǎn)品預(yù)計除可作為光開關(guān)或高曲折率波長轉(zhuǎn)換機等用途外，研究團隊也期待應(yīng)用在高機能鏡片、反射防止膜等領(lǐng)域，希望早日達到實用化水平。