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[導讀]TDK開發(fā)出了厚度僅為15μm的觸摸面板用透明導電膜。這是設想用于平板電腦及智能手機用電容式觸摸面板而開發(fā)的產(chǎn)品,目標是2015年投放市場。 右手中是兩片重疊在一起的此次開發(fā)的15μm厚的試制品。因為很薄,所以

TDK開發(fā)出了厚度僅為15μm的觸摸面板用透明導電膜。這是設想用于平板電腦及智能手機用電容式觸摸面板而開發(fā)的產(chǎn)品,目標是2015年投放市場。

右手中是兩片重疊在一起的此次開發(fā)的15μm厚的試制品。因為很薄,所以呈下垂狀態(tài)。左手拿的是兩片重疊在一起的125μm厚的透明導電膜。 (點擊放大

隨著平板電腦及智能手機向薄型化發(fā)展,作為其主要部件之一的觸摸面板的薄型化需求也非常強烈。據(jù)TDK介紹,目前主流的電容式觸摸面板用透明導電膜的厚度為125μm,但50μm產(chǎn)品的出貨量在2013年趨于增加,2014年將成為主流。而且,到2015年,市場上還將出現(xiàn)對更薄產(chǎn)品的需求。因此,該公司迅速開發(fā)出了厚度為15μm的透明導電膜。

透明導電膜難以實現(xiàn)薄型化的原因在于,在制造工序中薄膜容易受熱變形,導致透明導電材料在基板上成膜時不穩(wěn)定。這會造成明顯的成膜不均,使導電膜難以獲得均一的特性。TDK利用在約30年的磁帶制造中積累的知識和經(jīng)驗,通過選擇合適的薄膜基板材料和透明導電材料、優(yōu)化成膜條件,解決了這一難題。

另外,TDK是在其位于日本大分縣日田市的三隈川工廠完成從材料的開發(fā)、選定到透明導電膜制造的整個流程。如果不采取這種一條龍體制,“此次的開發(fā)很難完成”(TDK)。

此次透明導電膜的透明導電材料使用的是利用濺射法成膜的ITO(銦錫氧化物)。薄膜電阻值為100Ω/□,可用于電容式觸摸面板。

另外,TDK將在10月1日~5日于幕張MESSE國際會展中心舉行的“CEATEC JAPAN 2013”上參考展出此次的薄膜試制品。(記者:田中 直樹,《日經(jīng)電子》)



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