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[導讀]Synopsys 發(fā)布下一代布局布線解決方案——IC Complier 2007.03 版。

    Synopsys 發(fā)布下一代布局布線解決方案——IC Complier 2007.03 版。該版本在運行時間、容量、多角/多模優(yōu)化(MCMM)等方面有所提高,而且具有改進的可預測性,可顯著提高設計人員的生產效率。

    同時,新版本還推出了支持正在興起的45納米技術的物理設計。

    IC Compiler 2007.03引入了用于快速運行模式的新技術,在保證原有質量的情況下使運行時間縮短了35%。新技術將16 Gb平臺的容量增加到接近1,000萬門,有助于用戶實現(xiàn)更大的模塊劃分。該版增加了集成的、層次化的設計規(guī)劃的早期介入,有助于用戶高效處理一億門級的設計。提高生產能效的另一個關鍵在于物理可行性流程,它能夠使用戶迅速生成和分析多次試驗布局,以確定具體實現(xiàn)的最佳起始值。

    IC Compiler 2007.03為高級設計引入了自適應性MCMM優(yōu)化技術,能夠在保持精度水平相同的情況下,實現(xiàn)更快的運行速度、更小的內存需求。IC Compiler為設計提供了多角/多模,實現(xiàn)了真正的并行優(yōu)化。這些用戶不能承受其他布局布線工具連續(xù)優(yōu)化對時序安排的影響,或接受低精度技術融合。高級設計也可受益于目前已經(jīng)提供的IC Compiler簽核驅動時序收斂。

    對于新興的45納米設計,IC Compiler 2007.03可為前沿用戶提供45納米布局及布線設計規(guī)則早期支持,并滿足光刻和與化學機械拋光(CMP)有關的金屬一致性的需求。目前,Synopsys正在與全球主要半導體廠商合作,為45納米設計的采用提供生產支持。與90納米和65納米設計一樣,Synopsys的物理部署解決方案率先啟動了45納米的流片。

    IC Compiler 2007.03版即將出貨。
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